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カオリナイトのキラル識別とその端面のキラル選択性に関する研究

高岭石手性判别及其端面手性选择性研究

基本信息

批准号：
06J09965
负责人：
亀田純
金额：
$ 2.18万
依托单位：
The University of Tokyo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份：
2006
资助国家：
日本
起止时间：
2006 至 2008
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-06J09965/
关键词：
カオリナイトキラリティー SPM XPS TEM FIB カオリン鉱物 SEM キラル EBSD HRTEM

项目摘要

カオリナイト結晶のキラリティーを決定するためには、結晶のポラリティー(裏表)解析を非破壊で行う必要がある。理想結晶の底面は、一方はSi四面体層、他方はAlOH八面体層という表面層が想定されるため、これらの化学的性質の違いを識別することを目的としてSPM,XPS等による表面分析を行った。SPMの一つであるKFM(Kelvin Force Microscope)を用いた観察の結果、カオリナイト表面に多数見られるステップの表面電位に明瞭な違いは見られなかった。このことから、異なる高さのステップは同一の化学的性質を持っている可能性が高い。つまり、これらのステップが結晶の面内回転であるツイン由来であり、ポラリティーの反転によるものではないと解釈することができる。また、異なる結晶粒の底面においても、基板との電位差はほぼ同じであった。これは、上で述べたような理想結晶とは異なる最外層を形成している可能性を示唆している。現在XPS(産総研NPF)による最外層の化学組成分析を進めており、いくつかの結晶からおよそSi:Al=2:1という組成比が得られた。またこれまでのところAl>Siという信号を得ることができていない。Ma and Eggleton(1999)は、カオリナイト最外層におけるmica層の形成をTEMにより観察している。この場合、裏表いずれの底面も最外層はSi四面体層であり、今回得られたSPM、XPSの結果とも調和的である。現在までのところ残念ながらカオリナイトのポラリティー解析は成功していないが、カオリナイト表面についてのいくつかの知見がえられつつあり、継続してSPM,XPSによる実験を進めたい。またポラリティー解析のためには、結晶構造に対応した理想的な底面を得る必要があり、物理的にヘキ開させるなどの試料調整についての検討が必要と考えられる。

The analysis of crystal structure is necessary. Ideal crystal bottom surface, Si tetrahedral layer on one side, AlOH octahedral layer on the other side, surface layer on the other side, surface analysis, SPM,XPS, etc. SPM's KFM(Kelvin Force Microscope) is used to detect the results, color and surface potential of most of the surface. There is a high possibility that this phenomenon will remain the same chemical nature. The crystal structure is composed of two parts: one part is crystal structure and the other part is crystal structure. The bottom surface of the crystal grain is different from the bottom surface of the substrate. The possibility of forming the outermost layer of the ideal crystal is shown. Now XPS(Production Research NPF) chemical composition analysis of the outermost layer of Si:Al=2:1 Composition ratio.またこれまでのところAl>Siという信号を得ることができていない。Ma and Eggleton(1999): TEM observations on the formation of the outermost mica layer. In this case, the bottom surface of the film is the outermost layer of Si tetrahedron, and now it is the result of SPM and XPS. Now, the resolution of the problem is successful, and the surface of the problem is solved. The problem is solved by SPM,XPS. The analysis of the crystal structure is necessary for obtaining the ideal bottom surface, and the physical analysis is necessary for adjusting the sample.