Novel electrochemical nanofabrication process for developing precise micro-chemical analytical systems

用于开发精确微化学分析系统的新型电化学纳米制造工艺

• 批准号: 18360357
• 负责人: HOMMA Takayuki
• 金额: $ 8.65万
• 依托单位: Waseda University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
• 财政年份: 2006
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2006 至 2008
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-18360357/
• 关键词: ナノ加工; 電気化学反応; シリコンプロセス; MEMS; ナノ構造体; 機能ナノ構造体

金属析出やエッチングなど種々のナノ加工に適用される電気化学反応系を理論的・実験的手法により詳細に解析すると共に,その特徴を活かした新規なプロセスの開発を試みた.その結果,Si表面へサブμmサイズの微細リアクターアレイを形成できるプロセスを得るとともに,これを基にしたリアクター系の構築を実現した.さらに強磁性ナノドットアレイなど種々のシステムに適用可能な機能ナノ構造体の精密形成プロセスを確立した.

Metal precipitation is a new process for the development of electrochemical reaction systems. As a result, the Si surface layer is formed into a thin layer of fine particles, and the structure of the fine particles is realized. Ferromagnetic structures can be used to establish the precise formation of structures that can function.

项目成果

無電解析出反応に対する鉛添加の影響の密度汎関数法による解析

利用密度泛函理论分析铅添加对化学沉积反应的影响

• 发表时间: 2009
• 作者: 木下遼太;國本雅宏;中井浩巳;本間敬之
• 通讯作者: 本間敬之

めっきプロセスを用いたナノギヤツプ電極の作製および分子ナノワイヤの特性評価

利用电镀工艺制造纳米间隙电极和分子纳米线的表征

• 发表时间: 2009
• 作者: 石崎将士;小林千秋;阪田薫穂. 齋藤美紀子;本間敬之
• 通讯作者: 本間敬之

Modeling of Electroless Deposition Process--Reaction Mechanism and Additive Effects--

无电沉积过程的建模--反应机理和附加效应--

• 发表时间: 2008
• 作者: T. Homma;M. Kunimoto;A. Mieno;H. Nakai
• 通讯作者: H. Nakai

Preparation of Electrodeposited Pt Nano Patterned Electrode using UV-Nano Imprinting Lithography

紫外-纳米压印光刻法制备电沉积铂纳米图案电极

• 发表时间: 2008
• 作者: M. Saito;J. Mizuno;H. Nishikubo;H. Fujiwara;T. Homma
• 通讯作者: T. Homma

無電解めっきの還元剤酸化反応に対するチオ尿素作用機構のエネルギー密度解析による検討

利用能量密度分析研究硫脲对化学镀还原剂氧化反应的作用机制

• 发表时间: 2009
• 作者: 三重野顕;中井浩巳;本間敬之
• 通讯作者: 本間敬之