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Induced Charge Evaluation for the Development of Particle Detectors Fabricated on Silicon Carbide

Induced Charge Evaluation for the Development of Particle Detectors Fabricated on Silicon Carbide
碳化硅颗粒探测器开发的感应电荷评估
批准号:
18360458
负责人:
OHSHIMA Takeshi
金额:
$10.85万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份:
2006
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2006 至 2008

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
耐放射線性炭化ケイ素(SiC)粒子検出器開発に必要な基礎データとして、ベータ線、アルファ線及びイオン入射により、SiCダイオードに発生する電荷の収集効率(CCE)を調べた。アルファ線等では、ほぼ100%のCCEを観測しSiCの検出器応用の有効性を実証した。一方、Niのような重イオンではSiCの物性に起因するCCEの低下が見出された。更に、電子線等により損傷を加えたSiCダイオードのCCE低下を調べ、優れた耐性を明らかにした。
英文摘要
耐放射線性炭化ケイ素(SiC)粒子検出器開発に必要な基礎データとして、ベータ線、アルファ線及びイオン入射により、SiCダイオードに発生する電荷の収集効率(CCE)を調べた。アルファ線等では、ほぼ100%のCCEを観測しSiCの検出器応用の有効性を実証した。一方、Niのような重イオンではSiCの物性に起因するCCEの低下が見出された。更に、電子線等により損傷を加えたSiCダイオードのCCE低下を調べ、優れた耐性を明らかにした。
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会议论文
Degradation of Charge Collection Efficiency Obtained for 6H-SiC n^+p Diodes Irradiated with Gold Ions
经金离子照射的 6H-SiC n^ p 二极管的电荷收集效率的降低
DOI: --
发表时间: 2007
期刊: Materials Science Forum 556-557
影响因子: --
作者: [T.Ohshima, T.Satoh, M.Oikawa, S.Onoda, S.Hishiki, T.Hirao, T.Kamiya, T.Yokoyama, A.Sakamoto, R.Tanaka, I Nakano, G.Wagner, H.Itoh]
通讯作者: H.Itoh
Degradation of Charge Collection Efficiency for 6H-SiC Diodes by Electron Irradiation
电子辐照导致 6H-SiC 二极管电荷收集效率下降
DOI: --
发表时间: 2009
期刊: Materials Science Forum 600-603
影响因子: --
作者: [N. Iwamoto, S. Onoda, S. Hishiki, T. Ohshima, M. Murakami, I. Nakano, K. Kawano]
通讯作者: K. Kawano
Transient Response to High Energy Heavy Ions in 6H-SiC n^+p Diodes
6H-SiC n^ p 二极管对高能重离子的瞬态响应
DOI: --
发表时间: 2009
期刊: Materials Science Forum 600-603
影响因子: --
作者: [S. Onoda, T. Ohshima, T. Hirao, S. Hishiki, N. Iwamoto, K. Kojima, K. Kawano]
通讯作者: K. Kawano
6H-SiCダイオードにおけるイオンビーム誘起電荷量の低下
6H-SiC 二极管中离子束感应电荷的减少
DOI: --
发表时间: 2007
期刊:
影响因子: --
作者: [小野田忍, 岩本直也, 大島武, 平尾敏雄,河野勝泰]
通讯作者: 平尾敏雄,河野勝泰
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    Control of Photons and Spins of High-Brightness Single Photon Center in Silicon Carbide
    Controlling of Single Photon Source in Silicon Carbide
    • 批准号:
      24656025
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
    • 资助金额:
      $2.58万
    • 财政年份:
      2012
    • 负责人:
      OHSHIMA Takeshi
    • 依托单位:
    Mechanism of the Destruction of Oxide on Silicon Carbide due to ChargeInduced by Ion Beams
    • 批准号:
      21360471
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额:
      $11.56万
    • 财政年份:
      2009
    • 负责人:
      OHSHIMA Takeshi
    • 依托单位: