不純物原子の規則配列を有する半導体デバイスの開発

杂质原子规则排列的半导体器件的开发

基本信息

  • 批准号:
    18681021
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 7.32万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
  • 财政年份:
    2006
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2006 至 2008
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

ナノデバイスでは、その電気的特性を制御するために導入される不純物原子の離散性が顕在化し、ランダムな分布故、デバイス毎に不純物原子個数および位置がゆらぐ結果、デバイス特性がバラつく、いわゆる"不純物ゆらぎ"が問題となる。本研究では、単一イオン注入法を用いて、半導体晶中に不純物原子を規則的に配列させた新しい半導体デバイスを創製し、不純物原子配列方法が半導体電気的特性に与える影響を調査する。不純物原子分布のデバイス特性への影響を調査するために、不純物分布を偏在させたSi抵抗体を試作した。電子線リソグラフィーを用いて、長さ500nm、幅2.5μmの抵抗体上に幅200nmのイオン注入用窓を有するマスクを形成した。イオン注入窓をチャネル中央、およびチャネル中央からソース側へ200nmの位置に設け、30keVのPイオンを1×10^11cm^-2注入し、2種類の不純物分布を有する抵抗体を実現した。ドレイン側に偏在する抵抗体は、ソース側に偏在させた抵抗体を電気的にソース/ドレインを入れ替えることによって実現している。レジスト剥離後、窒素雰囲気中、900℃、5minのアニール仁よって注入イオンの電気的活性化を行った。ドレイン電流のゲート電圧依存性を計測したところ、チャネル中央に不純物分布を有する抵抗体では、ソースとドレインを入れ替えても特性は対称であったが、チャネル中央からソース側へ200nmの位置に不純物を配置した抵抗体では、ソースとドレインの入替によって特性が変化することが判明した。不純物原子がソース側よりドレイン側に偏在する方が、ドレイン電流が高くなる結果が得られている。ナノデバイスで顕在化する不純物原子の離散性を考慮したナノデバイスのモデリングが世界的中で進められているが、サブミクロンデバイスにおいて不純物分布の違いが電気的特性に及ぼす影響を初めて実験的に検証した。
The characteristics of thermal conductivity and electrical power supply control that the dispersion of atoms and the distribution of atoms, the number of atoms, the number of atoms, the temperature, the number of atoms, the temperature, the In this study, the new rules of inert atoms in semicrystal crystals are used in this study. in this study, the characteristics and effects of the rules of inert atoms in semicrystals, the rules of inert atoms in semiconductors, and the configuration of inert atoms in semiconductors are studied. The atomic distribution of matter is different from that of the Si resistant. the atomic distribution of matter is different from that of the atomic distribution of matter. The electric cable is used in the transmission line. The long 500nm is 2.5 μ m, and the frame of the antibody is 2.5 μ m. The 200nm filter is injected into the device. The equipment is injected into the center of the system, the center of the system, the location setting of the 200nm, the location of the 30keV device, the injection of 1 × 10 ^ 11cm ^-2, and the distribution of the same object. There is a tendency to pay attention to the level of resistance in the market, and the number of people in the market is in favor of the radio station of the radio and television. After exfoliation, asphyxiant was injected into the active battery of the battery at 900 ℃ for 5 min. The electrical current, the electrical dependence, the distribution, the distribution, the characteristic, the location, the location. This is the first time that the property has been changed and that it has been identified. As a result of the high temperature test results, the results show that there is a high temperature difference between the two sides. In order to improve the atomic dispersion of materials, the distribution of materials in the world is not affected by the dispersion of the atoms in the world. in the world, the characteristics of the computers and the characteristics of the computers are affected.

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Semiconductors with ordered single-dopant arrays [Invited]
具有有序单掺杂阵列的半导体 [邀请]
  • DOI:
  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T.Shinada;T.Kurosawa;M.Hori;I.Ohdomari
  • 通讯作者:
    I.Ohdomari
ナノホールアレイマスクによる不純物原子の規則配列形成
使用纳米孔阵列掩模形成规则的杂质原子阵列
  • DOI:
  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    黒沢 智紀;品田 賢宏;大泊巌
  • 通讯作者:
    大泊巌
Semiconductors with ordered dopant array [Invited]
具有有序掺杂剂阵列的半导体 [邀请]
  • DOI:
  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T. Shinada;T. Kurosawa;M. Hori;I. Ohdomari
  • 通讯作者:
    I. Ohdomari
シングルイオン注入法〜単一イオン制御の最前線[招待講演]
单离子注入法——单离子控制最前沿【特邀演讲】
  • DOI:
  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    大泊 巌;品田 賢宏
  • 通讯作者:
    品田 賢宏
Reliable method for doping single-impurity atoms into nanodevices
将单杂质原子掺杂到纳米器件中的可靠方法
  • DOI:
  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T. Shinada;H. Nakayama;T. Kurosawa;Y. Zhu;M. Hori;I. Ohdomari
  • 通讯作者:
    I. Ohdomari
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

品田 賢宏其他文献

Single Ion Irradiation-The History of Frustrations and Challenges-
单离子照射-挫折与挑战的历史-
  • DOI:
  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    照沼 知英;品田 賢宏;大泊 巌;I. Ohdomari
  • 通讯作者:
    I. Ohdomari
集束イオンビームによる打ち込みNi触媒からのCNT成長(II)
通过聚焦离子束从注入 Ni 催化剂生长 CNT (II)
  • DOI:
  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    森金 亮太;品田 賢宏;大泊 巌
  • 通讯作者:
    大泊 巌
単一イオン注入誘起欠陥のシリコン抵抗体に与える電気的影響評価
单离子注入引起的硅电阻缺陷电效应评估
  • DOI:
  • 发表时间:
    2006
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    岡本 晋太郎;品田 賢宏;大泊 巌
  • 通讯作者:
    大泊 巌
低ドープSi抵抗体における不純物原子の離散性評価
低掺杂硅电阻器中杂质原子离散性评价
  • DOI:
  • 发表时间:
    2006
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    黒沢 智紀;品田 賢宏;大泊 巌
  • 通讯作者:
    大泊 巌
クーロンポテンシャル型電子軌道量子ビットとその読み出しに関する基礎的検討
库仑势型电子轨道量子比特及其读出的基础研究
  • DOI:
  • 发表时间:
    2005
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    岡本 晋太郎;品田 賢宏;大泊 巌
  • 通讯作者:
    大泊 巌

品田 賢宏的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('品田 賢宏', 18)}}的其他基金

Application of deterministic dopant devices to probabilistic information processing, quantum computing/measurement
确定性掺杂器件在概率信息处理、量子计算/测量中的应用
  • 批准号:
    23H00169
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 7.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
単一不純物原子が制御されたナノデバイス製造技術の開発
可控单杂质原子纳米器件制造技术的开发
  • 批准号:
    19651066
  • 财政年份:
    2007
  • 资助金额:
    $ 7.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Exploratory Research
One-by-oneドーピング法による特性ゆらぎのない極微半導体デバイスの実現
使用逐一掺杂方法实现无特性波动的超精细半导体器件
  • 批准号:
    14750240
  • 财政年份:
    2002
  • 资助金额:
    $ 7.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
シングルイオン注入法を用いた不純物原子の個数・位置制御によるナノ物性制御
使用单离子注入方法通过控制杂质原子的数量和位置来控制纳米物理性质
  • 批准号:
    02J84201
  • 财政年份:
    2002
  • 资助金额:
    $ 7.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows

相似海外基金

多結晶シリコン基板を用いたⅢ族窒化物半導体面状発光デバイスの開発に関する研究
使用多晶硅衬底的III族氮化物半导体平面发光器件的开发研究
  • 批准号:
    24K07603
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 7.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
半導体教育のためのシリコン太陽電池教材の開発と実践
半导体教育硅太阳能电池教材的开发与实施
  • 批准号:
    24K06370
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 7.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
高速機械学習と連携させた原子間ポテンシャルの開発と半導体結晶中の点欠陥の解析
结合高速机器学习和半导体晶体点缺陷分析来开发原子间势
  • 批准号:
    23K04604
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 7.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Semiconductor interface engineering that simultaneously realizes bond formation and functionalization
同时实现键形成和功能化的半导体界面工程
  • 批准号:
    23K03942
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 7.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
情報学を活用した移動現象制御手法の開発とパワー半導体作製プロセスへの適用
利用信息学开发运动现象控制方法及其在功率半导体制造过程中的应用
  • 批准号:
    22KJ2057
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 7.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
Exploring spin coherence engineering in group IV semiconductor quantum structures
探索 IV 族半导体量子结构中的自旋相干工程
  • 批准号:
    23H05455
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 7.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (S)
自由に組成制御されたスズ系三元半導体混晶の開発と熱電発電応用の検討
成分自由控制的锡基三元半导体混晶的开发及温差发电应用研究
  • 批准号:
    21K04137
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 7.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
溶融パッチ状半導体薄膜の球状粒子への連続変形と真球化
熔融的片状半导体薄膜连续变形为球形颗粒并球化
  • 批准号:
    20K05351
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 7.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
酸化グラフェンを触媒として用いた新規半導体表面加工技術の開発
以氧化石墨烯为催化剂开发新型半导体表面加工技术
  • 批准号:
    20J20411
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 7.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
SiC半導体中のSi空孔製作用の異種イオン混合サブミクロンビーム形成技術の開発
开发用于在 SiC 半导体中制造 Si 空位的混合离子亚微米束形成技术
  • 批准号:
    20H02673
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 7.32万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了