Development of a method for surface chemical analysis with atomic-depth resolution using multi-charge ions

开发使用多电荷离子进行原子深度分辨率表面化学分析的方法

• 批准号: 19360016
• 负责人: MOTOHASHI Kenji
• 金额: $ 7.99万
• 依托单位: Tokyo University of Agriculture and Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
• 财政年份: 2007
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2007 至 2008
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-19360016/
• 关键词: ビーム応用; 多価イオン; 表面分析; 二次イオン質量分析; 電子捕獲散乱; 原子層選別; 同時計測; 二次電子; 水素原子; 面極性

表面の原子層を選別しながら、表面構成原子の種類を高感度に特定できる表面分析法(表面化学分析法)を実現するため、多価イオンを用いた散乱粒子・二次粒子同時測定装置を開発した。多価イオンの持つ反応性の高さと状態選択性の高さを利用することにより、極めて少ない入射イオン量でありながら、表面第1層と第2層を区別しながら表面原子の種類を特定することに成功した。

The surface atomic layer is selected and the types of atoms constituting the surface are selected and the surface analysis method is highly sensitive and specific (surface analysis method). The chemical analysis method) is used for the simultaneous measurement of scattered particles and secondary particles, and the multi-dispersion method is used for simultaneous measurement of scattered particles and secondary particles. The state of the high resistance of the multi-価イオンのholds the high resistance of the resistance, and the state of the high resistance of the resistance is selected.しながらThe difference between the first layer of the surface and the second layer of the surface ののをSpecific することにした.

项目成果

多価イオンを用いた表面原子層選別SIMSの開発I

使用多价离子 I 进行表面原子层选择的 SIMS 开发

• 发表时间: 2008
• 作者: M.Shimanuki;Y.Matsumoto;A.Nomura;T.Ikari;M.Naitoh;S.Nishigaki;N.Toyama;本橋健次
• 通讯作者: 本橋健次

低速多価イオン-固体表面衝突における散乱粒子の二次元検出

慢速多带电离子-固体表面碰撞中散射粒子的二维检测

• 发表时间: 2007
• 作者: 大久保恒夫;他;本橋健次
• 通讯作者: 本橋健次

Protonsputtering from polycrystalline Al surface interactingwith highly charged ions at grazing incidence angle

多晶铝表面的质子溅射与掠入射角的高电荷离子相互作用

• 发表时间: 2007
• 期刊: Nucl Instrum. Meth. Phys. Res. B 264
• 作者: 土田亮;他;富樫 秀晃;K. Motohashi and S. Tsurubuchi
• 通讯作者: K. Motohashi and S. Tsurubuchi

Fragmentation and desorption inlow-energy highly charged ion collisions withmolecules and surfaces

低能高电荷离子与分子和表面碰撞时的碎裂和解吸

• 期刊: J.Phys. : Conf. Ser. accepted for publication
• 作者: 杉山大揮;他;K. Motohashi
• 通讯作者: K. Motohashi

Sputtering with slow highlycharged ions under glancing incidence

掠射下慢速高电荷离子溅射

• 发表时间: 2008
• 作者: Y. Sugimoto;T. Namikawa;K. Miki;M.Abe;and S. Morita;Kenji Motohashi
• 通讯作者: Kenji Motohashi