Direct pattering of oxide films by surface discharge technique

通过表面放电技术直接图案化氧化膜

• 批准号: 19560725
• 负责人: OKUYA Masayuki
• 金额: $ 3万
• 依托单位: Shizuoka University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2007
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2007 至 2008
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-19560725/
• 关键词: 沿面放電; プラズマ; ダイレクトパターニング; 酸化亜鉛; 薄膜; プラズマ処理; レーザー加工

本研究では平面プラズマを利用したナノ構造物の形成および薄膜のダイレクトパターニング形成を試みる。プラズマは局所的に平面状に照射させることができ、基板自体は加熱されない特徴があるため、プラスチック等の低融点基板への適用も可能である。具体的には、有機・無機金属塩やコロイドをテンプレート用基板に塗布後、放電電極と重ねてプラズマを照射することで、照射部分のみを結晶化させる。未反応部分を水で洗浄後、電極と同じパターン化された膜が残留してダイレクトパターニング製膜が完成する。

In this study, the formation of planar structures and thin films was studied. The application of low melting point substrates such as flat surface irradiation, substrate self-heating, etc. is possible. Specifically, the organic and inorganic metal particles are crystallized after being coated on the substrate, and the electrode is irradiated. After washing with water, the electrode and the film are completely formed.

项目成果

マイクロ波加熱による透明導電性薄膜の作製

微波加热制备透明导电薄膜

• 发表时间: 2009
• 作者: 高橋;他
• 通讯作者: 他

沿面プラズマによる常温大気圧下での酸化物薄膜のダイレクトパターニング

使用蠕变等离子体在室温和大气压下直接图案化氧化物薄膜

• 发表时间: 2009
• 作者: 柴山;他
• 通讯作者: 他

Preparation of ZnO films by a coplanar plasma discharge technique

共面等离子体放电技术制备ZnO薄膜

• 发表时间: 2008
• 作者: Y. Shibayama;他
• 通讯作者: 他

Comparative Evolved Gas Analyses of Crystalline and Amorphous Titanium (IV) oxohydroxo- acetylacetates by TG-FTIR and TG/DTA-MS

通过 TG-FTIR 和 TG/DTA-MS 对结晶和非晶态氧代羟基乙酰乙酸钛 (IV) 的逸出气体进行对比分析

• 发表时间: 2009
• 期刊: Thermochemica Acta Vol.489
• 作者: J.Madarasz;S.Kaneko;M.Okuya;G.Pokol
• 通讯作者: G.Pokol

コプラナー型沿面放電による酸化物薄膜の形成

共面沿面放电形成氧化物薄膜

• 发表时间: 2009
• 作者: 柴山;他
• 通讯作者: 他