Cylinder rod surface coating using sputtering deposition method with modulated magnetic field
采用调制磁场溅射沉积方法进行缸杆表面涂层
基本信息
- 批准号:20340164
- 负责人:
- 金额:$ 6.99万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份:2008
- 资助国家:日本
- 起止时间:2008 至 2010
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
Tungsten, carbon and titanium thin films were prepared on the carbide steel cylinder rod using new magnetron sputtering deposition method to prevent their corrosion and/or increasing friction resistance. In the deposition, plasmas were generated between cylinder rod anode substrate and cylinder pipe targets. Experimental results suggest that plasma density distribution move to the axial direction using modulated magnetic field generated by low frequency alternating coil current. Deposition rate and film uniformity increased using modulated magnetic field, and corrosion resistance and friction resistance were increased by this hard coating.
采用新型磁控溅射沉积方法在碳化钢圆筒棒上制备了钨、碳和钛薄膜,以防止其腐蚀和增加摩擦阻力。在沉积过程中,圆柱体棒阳极衬底与圆柱体管靶之间产生等离子体。实验结果表明,利用低频交流线圈电流产生的调制磁场,等离子体密度分布向轴向移动。利用调制磁场提高了镀层的沉积速率和均匀性,并提高了镀层的耐蚀性和耐摩擦性。
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Studies on allergic substance elimination by RF plasma treatment
射频等离子体治疗消除过敏物质的研究
- DOI:
- 发表时间:2010
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Y.Yagyu;A.Hikita;N.Hayashi;H. Kawasaki;T.Ohshima;Y.Suda
- 通讯作者:Y.Suda
Optical study of the low discharge power magnetron sputtering plasma using pure tungsten target
纯钨靶材低放电功率磁控溅射等离子体的光学研究
- DOI:
- 发表时间:2010
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T.Matsunaga;T.Ohshima;H.Kawasaki;T.Kaneko;Y.Yagyu;Y.Suda
- 通讯作者:Y.Suda
Study on the behavior of the Plasma Plume and Film Quality using Pulsed Laser Deposition with Tungsten Target
钨靶脉冲激光沉积等离子体羽流行为和薄膜质量研究
- DOI:
- 发表时间:2009
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:H.Kawasaki;T.Ohshima;Y.Yagyu;Y.Suda
- 通讯作者:Y.Suda
レーザーアブレーション法によるAlドープ酸化亜鉛薄膜の作製
激光烧蚀法制备Al掺杂氧化锌薄膜
- DOI:
- 发表时间:2010
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Mori;K. Notsu;村上雄紀
- 通讯作者:村上雄紀
Trasactions of the Materials Research Society of Japan
日本材料研究会会刊
- DOI:
- 发表时间:2010
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Yoshihito YAGYU;Akira HIKITA;Nobuya HAYASHI;Hiroharu KAWASAKI,Tamiko OHSHIMA;Yoshiaki SUDA
- 通讯作者:Yoshiaki SUDA
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
KAWASAKI Hiroharu其他文献
KAWASAKI Hiroharu的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
{{ truncateString('KAWASAKI Hiroharu', 18)}}的其他基金
Study on the mechanism of the sputtering deposition process and preparation of the new functional thin films
溅射沉积工艺机理研究及新型功能薄膜的制备
- 批准号:
23340181 - 财政年份:2011
- 资助金额:
$ 6.99万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Control of generation, growth, and behavior of particles in ablation plasma plume by electrmagnie field
电磁场控制烧蚀等离子体羽流中粒子的产生、生长和行为
- 批准号:
11558054 - 财政年份:1999
- 资助金额:
$ 6.99万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
相似海外基金
板組コイル陽極を用いた金属窒化物膜形成用フィルタードアーク蒸着装置の開発
使用板线圈阳极形成金属氮化物膜的过滤电弧蒸发设备的开发
- 批准号:
22H01470 - 财政年份:2022
- 资助金额:
$ 6.99万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Preparation of functional hard coating films with multilayer structure via pulsed sputtering plasma with high-density
高密度脉冲溅射等离子体制备多层结构功能性硬质涂层薄膜
- 批准号:
20K04442 - 财政年份:2020
- 资助金额:
$ 6.99万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Preparation of functional hard coating materials by high density pulsed plasma ion implantation
高密度脉冲等离子体离子注入制备功能性硬涂层材料
- 批准号:
17K06298 - 财政年份:2017
- 资助金额:
$ 6.99万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
配向制御したPVDハードコーティングによるトライボロジー特性の向上
通过定向控制 PVD 硬质涂层改善摩擦学性能
- 批准号:
13750666 - 财政年份:2001
- 资助金额:
$ 6.99万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)