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Preparation of functional hard coating films with multilayer structure via pulsed sputtering plasma with high-density
高密度脉冲溅射等离子体制备多层结构功能性硬质涂层薄膜
基本信息
- 批准号：20K04442
- 负责人：
- 金额：$ 2.75万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2020
- 资助国家：日本
- 起止时间：2020-04-01 至 2023-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（5）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Properties of CrN/VN multilayer films prepared via a hybrid system of HiPIMS and pulsed-DC magnetron sputtering
HiPIMS 和脉冲直流磁控溅射混合系统制备的 CrN/VN 多层薄膜的性能
- DOI：
- 发表时间：2021
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：M. Maeda;T. Kimura
- 通讯作者：T. Kimura
Properties of Multilayered CrN/VN Films Prepared Using a Hybrid System of High-Power Impulse Magnetron Sputtering and Pulsed Magnetron Sputtering
- DOI：10.1109/tps.2022.3175190
- 发表时间：2023-02
- 期刊：
- 影响因子：1.5
- 作者：T. Kimura;Hiroki Maeda
- 通讯作者：T. Kimura;Hiroki Maeda
Synthesis of diamond-like carbon thin film via multi pulse high-power impulse magnetron sputtering
多脉冲高功率脉冲磁控溅射合成类金刚石碳薄膜
- DOI：
- 发表时间：2022
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：佐藤 裕之;関川 純哉;森田真仁，部矢明，高原一晶，新口昇，平田勝弘;Takashi Kimura
- 通讯作者：Takashi Kimura
Properties of CrN/TiN Multilayer Films With Nanoscale Layer Thickness
- DOI：10.1109/tps.2022.3185148
- 发表时间：2023-02
- 期刊：
- 影响因子：1.5
- 作者：Takashi Kimura;Hiroki Maeda
- 通讯作者：Takashi Kimura;Hiroki Maeda
Multilayered CrN/TiN and CrN/VN films prepared via hybrid system of HiPIMS and pulsed-DC magnetron sputtering
HiPIMS 和脉冲直流磁控溅射混合系统制备多层 CrN/TiN 和 CrN/VN 薄膜
- DOI：
- 发表时间：2021
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：M. Maeda;T. Kimura
- 通讯作者：T. Kimura
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Kimura Takashi其他文献
Fabrication of ultrashort sub-meter-radius x-ray mirrors using dynamic stencil deposition with figure correction
使用动态模板沉积和图形校正制造超短亚米半径 X 射线反射镜
- DOI：
10.1063/5.0135367 - 发表时间：
2023 - 期刊：
- 影响因子：1.6
- 作者：
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Mimura Hidekazu
蔵書印について ―篆書の読み方
关于图书馆印章 - 如何阅读印章
- DOI：
- 发表时间：
2021 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
Iimori Riku;Obinata Sora;Mitsuda Akihiro;Kimura Takashi;青田寿美 - 通讯作者：
青田寿美
An arrayed-window microfluidic device for observation of mixed nanoparticles with an X-ray free-electron laser
用于使用 X 射线自由电子激光观察混合纳米粒子的阵列窗口微流控装置
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- 影响因子：1.2
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Kimura Takashi
圧縮性拡張MHDシミュレーションにおける自由境界プラズマ平衡
可压缩扩展 MHD 模拟中的自由边界等离子体平衡
- DOI：
- 发表时间：
2022 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
Suzuki Akihiro;Tanaka Hiromochi;Yamashige Hisao;Orikasa Yuki;Niida Yoshiya;Kimura Takashi;Tono Kensuke;Yabashi Makina;Ishikawa Tetsuya;Bessho Yoshitaka;Joti Yasumasa;Nishino Yoshinori;廣田 真 - 通讯作者：
廣田 真
Nonlinear power dependence of ferromagnetic resonance in NiFe/Pt/CoFeB trilayer
NiFe/Pt/CoFeB 三层铁磁共振的非线性功率依赖性
- DOI：
10.1088/1361-648x/ac26f8 - 发表时间：
2021 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
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Kimura Takashi
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X射线单次显微光谱成像演示
- 批准号：
20H04451 - 财政年份：2020
- 资助金额：
$ 2.75万 - 项目类别：
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Macroscopic and microscopic diversity of pathogenesis in the central nervous system of patients with myotonic dystrophy type 1
1型强直性肌营养不良患者中枢神经系统发病机制的宏观和微观多样性
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18K07515 - 财政年份：2018
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$ 2.75万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Control of magnetostriction based on thermal spin injection and its development for nano-spin actuator
基于热自旋注入的磁致伸缩控制及其纳米自旋执行器的研制
- 批准号：
18H03866 - 财政年份：2018
- 资助金额：
$ 2.75万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
Development of Microliquid Environmental Cells for X-ray Laser Diffraction Imaging
X射线激光衍射成像微液体环境池的开发
- 批准号：
16H05989 - 财政年份：2016
- 资助金额：
$ 2.75万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
Investigation of the mechanism of equine herpesvirus-1 latency using mice expressing a viral receptor
使用表达病毒受体的小鼠研究马疱疹病毒 1 潜伏期机制
- 批准号：
16H05022 - 财政年份：2016
- 资助金额：
$ 2.75万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Spin Torque Oscillator using giant pure spin current
使用巨型纯自旋电流的自旋扭矩振荡器
- 批准号：
26630162 - 财政年份：2014
- 资助金额：
$ 2.75万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
Development of surface modification techniques for coherent X-ray diffraction imaging of in-solution biological samples.
开发溶液内生物样品相干 X 射线衍射成像的表面改性技术。
- 批准号：
26870006 - 财政年份：2014
- 资助金额：
$ 2.75万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
Selective control of magnetic transition using pure spin current injection and development of innovative nanospin devices
使用纯自旋电流注入选择性控制磁转变以及创新纳米自旋器件的开发
- 批准号：
25220605 - 财政年份：2013
- 资助金额：
$ 2.75万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (S)
相似海外基金
大電力パルススパッタ法による二酸化バナジウム薄膜の低温成長と熱遮蔽窓への応用
高功率脉冲溅射法低温生长二氧化钒薄膜及其在隔热窗中的应用
- 批准号：
23K13091 - 财政年份：2023
- 资助金额：
$ 2.75万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
大電力パルススパッタ法を用いたカーボンイオンの高効率生成メカニズムの探求
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- 批准号：
22K03590 - 财政年份：2022
- 资助金额：
$ 2.75万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Deposition and application of ultra-thin phase transition oxide thin films by high power pulsed magnetron sputtering
高功率脉冲磁控溅射超薄相变氧化物薄膜的沉积及应用
- 批准号：
20K14455 - 财政年份：2020
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$ 2.75万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
Development of High-Throughput Micro-LED Fabrication Process Utilizing Crystallographic Orientation Modulated Templates
利用晶体取向调制模板开发高通量 Micro-LED 制造工艺
- 批准号：
19K22145 - 财政年份：2019
- 资助金额：
$ 2.75万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
Plasma potential control by dual target HPPMS for film structure modification
通过双靶 HPPMS 控制等离子体电势以进行薄膜结构改性
- 批准号：
17K05106 - 财政年份：2017
- 资助金额：
$ 2.75万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Preparation of functional hard coating materials by high density pulsed plasma ion implantation
高密度脉冲等离子体离子注入制备功能性硬涂层材料
- 批准号：
17K06298 - 财政年份：2017
- 资助金额：
$ 2.75万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Film structure modification using high power pulsed magnetron sputtering with target voltage control during pulse-off period
使用高功率脉冲磁控溅射在脉冲关闭期间控制靶电压来修改薄膜结构
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24560063 - 财政年份：2012
- 资助金额：
$ 2.75万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Reactive Sputtering of Oxygen-Free Metal Nitride Films : Oxygen Incorporation and Effect on Electrical Properties
无氧金属氮化物薄膜的反应溅射：氧的掺入及其对电性能的影响
- 批准号：
21560054 - 财政年份：2009
- 资助金额：
$ 2.75万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)