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Preparation of functional hard coating materials by high density pulsed plasma ion implantation
高密度脉冲等离子体离子注入制备功能性硬涂层材料
基本信息
- 批准号：17K06298
- 负责人：
- 金额：$ 3.08万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2017
- 资助国家：日本
- 起止时间：2017-04-01 至 2020-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Deposition of Si-doped DLC films by reactive HiPIMS combined with PBII system
反应性 HiPIMS 结合 PBII 系统沉积 Si 掺杂 DLC 薄膜
- DOI：
- 发表时间：2019
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：T. Kimura;Y. Shibata;S. Nakao;K. Azuma
- 通讯作者：K. Azuma
Deposition and ion irradiation multi-process coating of diamond-like carbon films using bipolar type plasma-based ion implantation
双极型等离子体离子注入沉积和离子辐照多工艺镀覆类金刚石碳膜
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：S. Nakao;H. Yanai;T.Kimura;K. Azuma
- 通讯作者：K. Azuma
Plasma based nitrogen ion implantation to hydrogenated diamond-like carbon films
- DOI：10.1016/j.nimb.2018.08.009
- 发表时间：2018-10
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：T. Kimura;Hidekazu Yanai;S. Nakao;K. Azuma
- 通讯作者：T. Kimura;Hidekazu Yanai;S. Nakao;K. Azuma
Preparation of silicon-doped diamond-like carbon films with electrical conductivity by reactive high-power impulse magnetron sputtering combined with a plasma-based ion implantation system
反应高功率脉冲磁控溅射结合等离子体离子注入系统制备导电硅掺杂类金刚石碳薄膜
- DOI：10.1016/j.diamond.2019.107635
- 发表时间：2020
- 期刊：
- 影响因子：4.1
- 作者：Y. Shibata;T. Kimura;S. Nakao;K. Azuma
- 通讯作者：K. Azuma
Preparation of TiN films by reactive high-power pulsed sputtering Penning discharges
反应式高功率脉冲溅射潘宁放电制备TiN薄膜
- DOI：10.7567/jjap.57.06je02
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：1.5
- 作者：T. Kimura;R. Yoshida;K.Azuma;S. Nakao
- 通讯作者：S. Nakao
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Development of equipment for multi-purpose materials processing by ions produced in high-density pulsed discharge plasmas
开发利用高密度脉冲放电等离子体产生的离子进行多用途材料加工的设备
- 批准号：
26420230 - 财政年份：2014
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Innovative multiple-bit information writing using local pure spin current injection
使用局部纯自旋电流注入创新的多位信息写入
- 批准号：
23651150 - 财政年份：2011
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
Development of hard deformable focusing mirror for general-purpose hard X-ray optics.
通用硬X射线光学器件硬变形聚焦镜的开发。
- 批准号：
23860001 - 财政年份：2011
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
Development of efficient magnetic refrigeration technique using pure spin current
利用纯自旋流开发高效磁制冷技术
- 批准号：
22246003 - 财政年份：2010
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
Functional analysis of equine herpesvirus-1 receptor and its application for infection prevention
马疱疹病毒1受体功能分析及其在感染预防中的应用
- 批准号：
20380165 - 财政年份：2008
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Development of plasma process equipment with pulsed plasma ablation technique
采用脉冲等离子体烧蚀技术的等离子体加工设备的开发
- 批准号：
20560267 - 财政年份：2008
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Development of multi-terminal spin logic devices using lateral spin injection devices
利用横向自旋注入器件开发多端自旋逻辑器件
- 批准号：
19686002 - 财政年份：2007
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
Superfluid States and Mott Transitions of Neutral Atom Systems
中性原子系统的超流态和莫特跃迁
- 批准号：
18740251 - 财政年份：2006
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
Analysis of West Nile virus neuroinvasion using in vitro blood-brain barrier models
利用体外血脑屏障模型分析西尼罗河病毒神经侵袭
- 批准号：
18580302 - 财政年份：2006
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Study on high frequency discharge containing oxygen at atmospheric pressure
常压含氧高频放电研究
- 批准号：
16560242 - 财政年份：2004
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
相似海外基金
単一物質で室温交換バイアスを示す逆ペロブスカイト型窒化物の高品質薄膜作製
使用单一材料制造具有室温交换偏压的高质量反钙钛矿氮化物薄膜
- 批准号：
23K04372 - 财政年份：2023
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
高効率ペロブスカイト太陽電池に向けた溶媒レス水熱合成法による酸化物半導体薄膜作製
无溶剂水热合成氧化物半导体薄膜用于高效钙钛矿太阳能电池
- 批准号：
21K04637 - 财政年份：2021
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Thin film fabrication of isothermal power generation materials for the development of wireless power sources without requirement of power supply
等温发电材料的薄膜制造，用于开发无需电源的无线电源
- 批准号：
21K18831 - 财政年份：2021
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
Thin film fabrication for dielectric elastomer actuators
介电弹性体致动器的薄膜制造
- 批准号：
562475-2021 - 财政年份：2021
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
University Undergraduate Student Research Awards
Establishment of Technology for Nanostructured Thin-film Fabrication by Glancing-angle Deposition in Reactive Plasma Environments
反应等离子体环境中掠角沉积纳米结构薄膜技术的建立
- 批准号：
20K05064 - 财政年份：2020
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
CAREER: Novel Electrodeposition Method using Water-In-Salt Electrolytes for Superconductor Thin Film Fabrication
职业：使用盐包水电解质制造超导薄膜的新型电沉积方法
- 批准号：
1941820 - 财政年份：2020
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Standard Grant
精密合成された複合ナノクラスターの集積薄膜作製と機能性デバイスへの応用
精密合成复合纳米团簇集成薄膜的制备及其在功能器件中的应用
- 批准号：
19J22141 - 财政年份：2019
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
有機半導体薄膜作製の先端技術「インクジェット法」を導入した学生実験の開発
使用先进技术“喷墨法”生产有机半导体薄膜的学生实验的开发
- 批准号：
19H00198 - 财政年份：2019
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Encouragement of Scientists
Quantitative analysis of surface strain of bent film: Fabrication of high performance flexible substrate by molecular orientation design
弯曲薄膜表面应变的定量分析：通过分子取向设计制造高性能柔性基板
- 批准号：
18K14297 - 财政年份：2018
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
化学反応制御による非真空プロセスでの高品質薄膜作製とその特性制御
在非真空工艺中制造高质量薄膜并通过化学反应控制控制其性能
- 批准号：
15J07829 - 财政年份：2015
- 资助金额：
$ 3.08万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows