Morphological instability of growing interface in diffusion field with a flow

流动扩散场中生长界面的形态不稳定性

• 批准号: 20540367
• 负责人: SATO Masahide
• 金额: $ 2.16万
• 依托单位: Kanazawa University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2008
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2008 至 2010
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-20540367/
• 关键词: ステップ; 微斜面; 結晶成長; 非平衡; 拡散場; 形態不安定性; パンチング; 流れ; バンチング; 結晶表面

We studied morphological instability of growing vicinal face in the diffusion field with a flow. On a vicinal face, steps show two types of instabilities, step wandering and step bunching. In our study, we considered a growing vicinal face in a solution and studied the condition to cause the step instabilities and the motion of each step. We showed that during step bunching, separation and collision repeatedly occurs.

研究了有流扩散场中生长邻面的形态不稳定性。在相邻面上，台阶表现出两种类型的不稳定性，台阶游荡和台阶聚束。在我们的研究中，我们考虑了一个不断增长的邻面在一个解决方案，并研究了条件，导致步骤的不稳定性和每个步骤的运动。我们发现，在步骤聚束，分离和碰撞反复发生。

项目成果

溶液から成長する微斜面の不安定化と流れの効果I

解 I 中邻近边坡的失稳和流动效应

• 发表时间: 2010
• 作者: 稲葉雅至;佐藤正英
• 通讯作者: 佐藤正英

Step Bunching Induced by Flow in Solution

溶液中流动引起的阶梯聚束

• 发表时间: 2011
• 期刊: J.Crst.Growth 381
• 作者: K.Iwai;T.Muraoka;T.Wakita;M.Hirai;T.Yokoya;Y.Kato;T.Muro;Y.Tamenori;Masahide Sato
• 通讯作者: Masahide Sato

Step wandering on Si(111) vicinal face near the 1×1〓7×7 transition temperature with drift of adatoms parallel to steps

在 1×1〓7×7 转变温度附近的 Si(111) 邻面上的阶跃漂移，吸附原子平行于阶跃漂移

• 发表时间: 2008
• 期刊: Phys.Rev.E 18
• 作者: Kenta Ikawa;Masahide Sato
• 通讯作者: Masahide Sato

Form ation of finger-like step patterns on a Si(111) Vicinal Face

在 Si(111) 邻面上形成指状台阶图案

• DOI: 10.1016/j.jcrysgro.2010.10.093
• 发表时间: 2011
• 期刊: J. Cryst. Growth
• 作者: M. Sato;S. Kondo and M. Uwaha
• 通讯作者: S. Kondo and M. Uwaha

Step Instabilities on Si(111) Vicinal Face near 1×1〓7×7 Transition Temperature during Sublimation

升华过程中 1×1〓7×7 转变温度附近 Si(111) 邻面的阶跃不稳定性

• 发表时间: 2009
• 期刊: J.Phys.Soc.Jpn. 78
• 作者: Kenta Ikawa;Masahide Sato
• 通讯作者: Masahide Sato