Development of carbon stripper foils for J-PARC Accelerators

开发用于 J-PARC 加速器的碳剥离箔

基本信息

  • 批准号:
    21540305
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3.08万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2009
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2009 至 2011
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

For over a decade, we have developed super long-lived carbon stripper foils of 1.20μg/cm2 thickness by the heavy ion beam sputtering method. Foils of this thickness are mainly used for heavy ion beams of 100-200 keV/u. Recently, high energy negative proton and heavy ion accelerators have started to use carbon stripper foils of over 100μg/cm2 in thickness. However, the heavy ion beam sputtering method was unsuccessful in production of foils thicker than 50μg/cm2 as resulted in the collapse of carbon particles from substrates during sputtering process. The reproduction probability was less than 25%. The samples of the carbon foil received had surface defects. However, the defects were eliminated by introduction of a substrate heater during sputtering process. In this manuscript we describe a highly reproducible method for thick carbon stripper foils by a heavy ion beam sputtering with krypton and xenon gases.
十多年来,我们通过重离子束溅射技术开发了厚度为1.20μg/cm2的超长寿命碳剥离箔。这种厚度的箔主要用于100- 200kev /u的重离子束。近年来,高能负质子和重离子加速器开始使用厚度超过100μg/cm2的脱碳箔。然而,由于在溅射过程中碳颗粒从衬底上坍塌,重离子束溅射方法无法生产厚度大于50μg/cm2的薄膜。繁殖概率小于25%。收到的碳箔样品表面有缺陷。然而,在溅射过程中引入衬底加热器可以消除这些缺陷。本文描述了用重离子束溅射氪气和氙气制备厚碳剥离箔的高重复性方法。

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Proceedings of the 22nd International Conference on the Application of Accelerator in Research and Industry(CAARI2012)
第22届国际加速器研究与工业应用会议论文集(CAARI2012)
  • DOI:
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    H. Muto;Y. Ohshiro;M. Oyaizu;K. Kawasaki and T. Hattori
  • 通讯作者:
    K. Kawasaki and T. Hattori
Evaluation of carbon stripper foils produced by a nitrogen ion beam sputtering method
氮离子束溅射法生产的碳剥离箔的评价
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    H. Muto;M. Oyaizu;K. Kawasaki and T. Hattori
  • 通讯作者:
    K. Kawasaki and T. Hattori
Microstructure of long-lived carbon stripper foils
长寿命碳剥离箔的微观结构
  • DOI:
  • 发表时间:
    2010
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    H. Muto;M. Oyaizu;K. Kawasaki and T. Hattori
  • 通讯作者:
    K. Kawasaki and T. Hattori
Ion beam sputtering and its applications
离子束溅射及其应用
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    H. Muto;M. Oyaizu;K. Kawasaki and T. Hattori
  • 通讯作者:
    K. Kawasaki and T. Hattori
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

MUTO Hideshi其他文献

MUTO Hideshi的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

相似海外基金

高速C60イオンビームによる有機分子薄膜のスパッタリング過程の解明
使用高速 C60 离子束阐明有机分子薄膜的溅射过程
  • 批准号:
    24K15594
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 3.08万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
液相フラックス制御スパッタリング法を利用した可視光応答水分解光電気化学セルの開発
采用液相通量控制溅射法开发可见光响应水分解光电化学电池
  • 批准号:
    23K26600
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 3.08万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Research on ion acceleration mechanism in microwave plasma
微波等离子体中离子加速机理研究
  • 批准号:
    23H01614
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 3.08万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
不均一場中での励起子ドリフトの実証と新概念・励起子デバイスの創製
异质场中激子漂移的演示以及新概念/激子装置的创建
  • 批准号:
    23K17752
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 3.08万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
Preparation of functional materials via highly efficient and sustainable sputtering system using multi pulse plasma
使用多脉冲等离子体通过高效且可持续的溅射系统制备功能材料
  • 批准号:
    23K03817
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 3.08万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Development of Functional Thin Films with Ultra-Trace Doping by Powder Sputtering
粉末溅射超微量掺杂功能薄膜的开发
  • 批准号:
    23K03373
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 3.08万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
非平衡プラズマ結晶成長技術による超高耐圧窒化アルミニウム系半導体電子素子の創製
利用非平衡等离子体晶体生长技术制造超高压氮化铝半导体电子器件
  • 批准号:
    23H01864
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 3.08万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
励起子トランジスタの室温動作実証と励起子輸送の学理探求
激子晶体管室温工作演示及激子输运理论探索
  • 批准号:
    22KJ2459
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 3.08万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
低抵抗率・長寿命の非蒸発ゲッター(NEG)コーテイング材の開発
开发低电阻率、长寿命的非蒸发吸气剂(NEG)涂层材料
  • 批准号:
    22K04936
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 3.08万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
金属酸化物単分子分散体の実現
金属氧化物单分子分散的实现
  • 批准号:
    22K04917
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 3.08万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了