Development of carbon stripper foils for J-PARC Accelerators
开发用于 J-PARC 加速器的碳剥离箔
基本信息
- 批准号:21540305
- 负责人:
- 金额:$ 3.08万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2009
- 资助国家:日本
- 起止时间:2009 至 2011
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
For over a decade, we have developed super long-lived carbon stripper foils of 1.20μg/cm2 thickness by the heavy ion beam sputtering method. Foils of this thickness are mainly used for heavy ion beams of 100-200 keV/u. Recently, high energy negative proton and heavy ion accelerators have started to use carbon stripper foils of over 100μg/cm2 in thickness. However, the heavy ion beam sputtering method was unsuccessful in production of foils thicker than 50μg/cm2 as resulted in the collapse of carbon particles from substrates during sputtering process. The reproduction probability was less than 25%. The samples of the carbon foil received had surface defects. However, the defects were eliminated by introduction of a substrate heater during sputtering process. In this manuscript we describe a highly reproducible method for thick carbon stripper foils by a heavy ion beam sputtering with krypton and xenon gases.
十多年来,我们通过重离子束溅射技术开发了厚度为1.20μg/cm2的超长寿命碳剥离箔。这种厚度的箔主要用于100- 200kev /u的重离子束。近年来,高能负质子和重离子加速器开始使用厚度超过100μg/cm2的脱碳箔。然而,由于在溅射过程中碳颗粒从衬底上坍塌,重离子束溅射方法无法生产厚度大于50μg/cm2的薄膜。繁殖概率小于25%。收到的碳箔样品表面有缺陷。然而,在溅射过程中引入衬底加热器可以消除这些缺陷。本文描述了用重离子束溅射氪气和氙气制备厚碳剥离箔的高重复性方法。
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Proceedings of the 22nd International Conference on the Application of Accelerator in Research and Industry(CAARI2012)
第22届国际加速器研究与工业应用会议论文集(CAARI2012)
- DOI:
- 发表时间:2012
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:H. Muto;Y. Ohshiro;M. Oyaizu;K. Kawasaki and T. Hattori
- 通讯作者:K. Kawasaki and T. Hattori
Evaluation of carbon stripper foils produced by a nitrogen ion beam sputtering method
氮离子束溅射法生产的碳剥离箔的评价
- DOI:
- 发表时间:2009
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:H. Muto;M. Oyaizu;K. Kawasaki and T. Hattori
- 通讯作者:K. Kawasaki and T. Hattori
Microstructure of long-lived carbon stripper foils
长寿命碳剥离箔的微观结构
- DOI:
- 发表时间:2010
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:H. Muto;M. Oyaizu;K. Kawasaki and T. Hattori
- 通讯作者:K. Kawasaki and T. Hattori
Ion beam sputtering and its applications
离子束溅射及其应用
- DOI:
- 发表时间:2009
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:H. Muto;M. Oyaizu;K. Kawasaki and T. Hattori
- 通讯作者:K. Kawasaki and T. Hattori
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MUTO Hideshi其他文献
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