Study on molecular processing by using fullerenol for digital nano-patterning Study on molecular processing by using fullerenol for digital nano-patterning Study on molecular processing by using fullerenol for digital nano-patterning

利用富勒烯醇进行数字纳米图案化的分子加工研究 利用富勒烯醇进行数字纳米图案化的分子加工研究 利用富勒烯醇进行数字纳米图案化的分子加工研究

基本信息

  • 批准号:
    21360064
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 12.56万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2009
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2009 至 2011
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

The material removal mechanisms with the chemical and mechanical effects in molecular revel was revealed by the Cu-CMP using the water-soluble fullerenol slurry and the optical surface measurement using in situ Raman analysis method that are originally developed in this study. Based on these fundamental knowledges, it is found that the controllability of chemical reactive effect by single fullerenol molecule makes it possible to achieve the digitally nano-controlled patterning process technique using a functional particle as a molecular machining tool.
本研究首先发展了水溶性富勒烯醇抛光液的Cu-CMP和原位拉曼光谱分析方法,揭示了材料去除的化学和机械分子效应机理。基于这些基本知识,发现通过单个富勒烯分子的化学反应效应的可控性使得使用功能颗粒作为分子加工工具来实现数字化纳米控制的图案化工艺技术成为可能。

项目成果

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专利数量(0)
Chemical mechanical polishing of patterned copper wafer surface using water-soluble fullerenol slurry
  • DOI:
    10.1016/j.cirp.2011.03.068
  • 发表时间:
    2011-01-01
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4.1
  • 作者:
    Takaya, Y.;Kishida, H.;Kokubo, K.
  • 通讯作者:
    Kokubo, K.
Performance of water-soluble fullerenol as novel functional molecular abrasive grain for polishing nanosurfaces
  • DOI:
    10.1016/j.cirp.2009.03.118
  • 发表时间:
    2009-01-01
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4.1
  • 作者:
    Takaya, Y.;Tachika, H.;Suzuki, K.
  • 通讯作者:
    Suzuki, K.
水酸化フラーレンを用いたCu-CMP加工に関する研究(第3報)-パターンウエハの研磨特製の評価-
使用氢氧化富勒烯进行Cu-CMP加工的研究(第3次报告)-图案化晶圆的特殊抛光评价-
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    岸田裕貴;高谷裕浩;林照剛;道畑正岐;小久保研
  • 通讯作者:
    小久保研
水酸化フラーレンを用いたCu-CMPにおける化学反応過程の解明(第1報)-in-situラマン分光分析装置の開発-
使用氢氧化富勒烯阐明 Cu-CMP 中的化学反应过程(第 1 部分) - 开发原位拉曼光谱仪 -
  • DOI:
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    H. Mino;R. Kometani;S. Warisawa;S. Ishihara;鹿野和昌
  • 通讯作者:
    鹿野和昌
Effect of Fullerene Poly-hydroxide on Cu-CMP Process
富勒烯多羟基化合物对 Cu-CMP 工艺的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Hirotaka Kishida;Terutake hayashi;Yasuhiro Takaya
  • 通讯作者:
    Yasuhiro Takaya
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Analysis of polishing machanism using chemical reactive nanoparticles based on Raman spectrum enhanced by localized and propagating surface plasmon resonance
基于局域和传播表面等离子体共振增强拉曼光谱的化学反应纳米颗粒抛光机理分析
  • 批准号:
    24656104
  • 财政年份:
    2012
  • 资助金额:
    $ 12.56万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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  • 批准号:
    15206016
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    2003
  • 资助金额:
    $ 12.56万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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    13450057
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    2001
  • 资助金额:
    $ 12.56万
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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    12555033
  • 财政年份:
    2000
  • 资助金额:
    $ 12.56万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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  • 批准号:
    11450058
  • 财政年份:
    1999
  • 资助金额:
    $ 12.56万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B).
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辐射压力驱动微加工刀具的发展
  • 批准号:
    10555039
  • 财政年份:
    1998
  • 资助金额:
    $ 12.56万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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