Preparation of Ferromagnetic and Ferroelectric Thin Films by Pulsed Laser Deposition and Their Characterization

脉冲激光沉积铁磁和铁电薄膜的制备及其表征

基本信息

  • 批准号:
    21360150
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 11.9万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2009
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2009 至 2011
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

Multiferroic BiFeO_3 has giant dielectric hysteresis at room temperature but very small magnetic hysteresis and so little magneto-electric effect. Then, BiFeO_3 and BiFe_<1-x> M_xO_3 thin films are prepared by pulsed laser deposition under magnetic field and/ or annealed under magnetic field. So, magnetic hysteresis of the prepare thin films could be increased by antiparallel arrangement of different spins of adjacent magnetic ions, defect generation and/ or microscopic texture variation, keeping large ferroelectricity and moreover magneto-electric effect is expected to be enhance.
多铁性BiFeO_3在室温下具有很大的介电滞后,但磁滞很小,磁电效应很小。在此基础上,<1-x>采用脉冲激光沉积法和磁场退火法制备了BiFeO_3和BiFe_ M_xO_3薄膜。因此,可以通过相邻磁性离子的不同自旋的反平行排列、缺陷的产生和/或微观织构的变化来增加所制备薄膜的磁滞,保持较大的铁电性,进而有望提高磁电效应。

项目成果

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Preparation of BiFeO_3 Thin Films on SrRuO_3/SrTiO_3(001) Substrate by Dual Ion Beam Sputtering Process
双离子束溅射法在SrRuO_3/SrTiO_3(001)基片上制备BiFeO_3薄膜
  • DOI:
    10.1143/jjap.50.09nb01
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    S.Nakashima;H.Fujisawa;H.Suminaga;J.M.Park;H.Nishioka;M.Kobune;T.Kanashima;M.Okuyama;M.Shimizu
  • 通讯作者:
    M.Shimizu
Studies on Electrical and Retention Enhancement Properties of Metal-Ferroelectric-Insulator-Semiconductor with Radical Irradiation Treatments
自由基辐照处理金属-铁电-绝缘体-半导体的电学和保留增强性能研究
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Le Van Hai;Takeshi Kanashima;Masanori Okuyama
  • 通讯作者:
    Masanori Okuyama
磁場中PLD法によるBi_<1.1>(Fe_<0.9>Co_<0.1>)O_3薄膜の作製と評価
磁场中PLD法制备Bi_<1.1>(Fe_<0.9>Co_<0.1>)O_3薄膜及性能评价
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    後藤田文也;朴正敏;中嶋誠二;金島岳;奥山雅則
  • 通讯作者:
    奥山雅則
PLD法によるITO基板上薄膜の作製と評価
PLD法ITO基板薄膜的制备与评价
  • DOI:
  • 发表时间:
    2010
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    朴正敏;後藤田文也;中嶋誠二;金島岳;奥山雅則
  • 通讯作者:
    奥山雅則
Ferroelectric Properties of Epitaxial BiFeO_<3> Thin Films Deposited by Ion Beam Sputtering
离子束溅射外延BiFeO_<3>薄膜的铁电性能
  • DOI:
  • 发表时间:
    2010
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    S.Nakashima;H.Fujisawa;et al.
  • 通讯作者:
    et al.
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