Creation of next-generation nanocomposite films by establishment of differential pumping co-deposition technique

通过建立差动泵浦共沉积技术创建下一代纳米复合材料薄膜

• 批准号: 21360359
• 负责人: NOSE Masateru
• 金额: $ 11.98万
• 依托单位: University of Toyama
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
• 财政年份: 2009
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2009 至 2011
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-21360359/
• 关键词: 薄膜プロセス; 差動排気同時成膜; 硬質膜; ナノコンポジット膜; 高分解能電子顕微鏡; イオン伝導性; 多層薄膜; 酸化還元反応; 機能性薄膜; r.f.-スパッタリング

A differential pumping co-sputtering system(DPCS) was newly developed to facilitate a controlled, but flexible fabrication of multifunctional nanocomposite films with compositions not limited by thermodynamic restrictions. As for the hard coatings, new nanocomoposite films consisting of nitride(CrAlN or AlN) and oxide(Al_2O_3 and SiO_2) were prepared using DPCS. Furthermore, a new nanocomposite films consisting of CrAlN and alumina was obtained from CrAlN/BN films, which was prepared with conventional sputtering apparatus, by annealing in air. On the other hand, as for the functional film, multi layered CeO_2/Al films were successfully obtained without aluminum oxidation during sputtering deposition with DPCS

差动泵浦共溅射系统(DPCS)是最新发展起来的一种可控、灵活的多功能纳米复合薄膜制备系统。对于硬质涂层，利用差示扫描量热法(DPCS)制备了由氮化物(CrAlN或AlN)和氧化物(Al_2O_3和SiO_2)组成的新型纳米复合氧化物薄膜。此外，用常规溅射设备制备的CrAlN/BN薄膜在空气中进行了热处理，得到了由CrAlN和Al_2O_3组成的新型纳米复合薄膜。另一方面，在功能膜方面，利用DPCS溅射沉积的方法成功地制备了CeO2/Al多层膜，且无铝氧化现象

项目成果

RFバイアススパッタ法により作製したAl-O-N膜の構造と特性

射频偏压溅射法制备Al-O-N薄膜的结构与性能

• 发表时间: 2010
• 作者: 野瀬正照、佐伯淳、松田健二、寺山清志、池野進;他3名
• 通讯作者: 他3名

Al-O-N膜の構造と特性に及ぼすスパッタ条件の影響

溅射条件对Al-O-N薄膜结构和性能的影响

• 发表时间: 2009
• 作者: 野瀬正照、佐伯淳、松田健二、寺山清志、池野進;他3名
• 通讯作者: 他3名

差動排気型2元同時成膜装置により作製したCrAlN/酸化物ナノコンポジット膜の微細構造

采用差动泵双组分沉积系统制备 CrAlN/氧化物纳米复合薄膜的微观结构

• 发表时间: 2011
• 作者: 高畠浩史,野瀬正照,松田健二;他4名
• 通讯作者: 他4名

Deposition of Novel Nanocomposite Films by a Newly Developed Differential Pumping Co-Sputtering System

通过新开发的差动泵浦共溅射系统沉积新型纳米复合薄膜

• 发表时间: 2012
• 期刊: Journal of Vacuum Science and Technology A
• 影响因子: 2.9
• 作者: M. Nose;T. Kurimoto;A. Saiki;K. Matsuda and K. Terayama
• 通讯作者: K. Matsuda and K. Terayama

反応性2元同時スパッタ法で作製したCrAlN/BNコーティング膜の構造と機械的性質

反应双组分溅射法制备CrAlN/BN镀膜的结构与力学性能

• 发表时间: 2009
• 作者: 野瀬正照、松田健二、池野進;他3名
• 通讯作者: 他3名