Challenge to fabrication and functionalization of novel graphene by advanced plasma processing

通过先进等离子体处理制造和功能化新型石墨烯面临的挑战

基本信息

  • 批准号:
    21654084
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.05万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
  • 财政年份:
    2009
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2009 至 2011
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

A transfer-free method for growing graphene directly on a SiO2 substrate has been realized for the first time by plasma chemical vapor deposition (PCVD). Using this method, high-quality single-layer graphene sheets can be selectively grown between a Ni film and the SiO2 substrate. Systematic investigations reveal that the relatively thin Ni layer and PCVD are critical to the success of this unique method of graphene growth. Selective edge functionalization of graphene is also realized by mild plasma treatment. The electrical transport properties of graphene can be tuned from p-to n-type with our developed mild plasma treatment.
采用等离子体化学气相沉积(PCVD)技术首次实现了在SiO2衬底上直接生长石墨烯的无转移方法。使用该方法,可以在Ni膜和SiO2衬底之间选择性地生长高质量的单层石墨烯片。系统的研究表明,相对薄的Ni层和PCVD是这种独特的石墨烯生长方法成功的关键。石墨烯的选择性边缘功能化也实现了温和的等离子体处理。通过我们开发的温和等离子体处理,可以将石墨烯的电传输特性从p型调整到n型。

项目成果

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专利数量(0)
Measurements of Mode Structure of Shear-Modified Drift Wave Using Y-and F-Shaped Electrostatic Probes
使用 Y 型和 F 型静电探针测量剪切修正漂移波的模态结构
  • DOI:
  • 发表时间:
    2009
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    R. Hatakeyama;T. Kaneko;T. Kato;Y. F. Li;and Q. Chen;Q.Chen;R.Hatakeyama;S.Tamura;R.Hatakeyama;畠山力三;金子俊郎;T.Kaneko;C.Moon;C.Moon;Q.Chen;Z.Ghorannevis;T.Harada;R.Hatakeyama;T.Kaneko;R.Hatakeyama;C.Moon;R.Hatakeyama;T.Kaneko
  • 通讯作者:
    T.Kaneko
反射防止光学構造付き基板およびその製造方法
具有减反射光学结构的基板及其制造方法
  • DOI:
  • 发表时间:
    2010
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
プラズマ応用ナノカーボン新機能化研究の最前線
等离子体应用纳米碳新功能化研究前沿
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Y. Aoki;P. Xie;A. Imamura;F. L. Gu;R.Hatakeyama
  • 通讯作者:
    R.Hatakeyama
Manipulation of DNA Molecules into and out of Carbon Nanotubes Using Liquid Related Plasmas
使用液体相关等离子体操纵 DNA 分子进出碳纳米管
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    斎藤慎一;村田剛志;T.Kaneko
  • 通讯作者:
    T.Kaneko
プラズマ-液体界面形成とナノバイオ分野への応用
等离子体-液体界面的形成及其在纳米生物领域的应用
  • DOI:
  • 发表时间:
    2010
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Miho Yamauchi;Tatsuya Tsukuda;Ryu Abe;加藤惟人;焼山佑美;R.Hatakeyama;畠山力三;管野恵理;山内美穂;佐藤和信;森田靖;金子俊郎
  • 通讯作者:
    金子俊郎
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    $ 2.05万
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    $ 2.05万
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  • 资助金额:
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    2024
  • 资助金额:
    $ 2.05万
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    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
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    2024
  • 资助金额:
    $ 2.05万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
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  • 批准号:
    24K21038
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 2.05万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
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  • 批准号:
    23K21770
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 2.05万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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  • 批准号:
    24K16992
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 2.05万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
ホウ素を高濃度で含有する3次元グラフェン多孔体の創成
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  • 批准号:
    24KJ0439
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 2.05万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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知道了