Plasma-Diagnostik zur in situ Messung konventioeneller Plasmen und hoch metallionenhaltiger HIPIMS-Plasmen zum Ionenätzen und für die Abscheidung von Dünnschichten.

现代等离子体诊断技术（Mit Hilfe von现代等离子体诊断技术，sollen wesentliche参数plasmagestest<e:1> tzter Oberflächenverfahren untersucht werden, untersucht werden Ionenätzen von Oberflächen sowie beder Herstellung von dnnschichtsystemen eingesetzt werden）， unterem unterundung neen Verfahrens of High -脉冲磁控溅射（HI-PIMS）。引用本文：王志强，王志强，王志强，等。物理物理相关性研究Vorgängen während des Ätz- and Beschichtungsprozesses mit den Eigenschaften der entstehenen Oberflächen and /oder dnnschichtsysteme herzustellen。大北公社-马斯斯基纳联合实验室，Langmuirsonde和spezielem Hochstrom-Oszilloskop zum Einsatz， die and die in mikrosekdenereich ablaufenden Plasmaprozesse angepisist。Durch die detaillierte kentnis des Plasmazustandes bem Ionenätzen wird es möglich sein, die Oberfläche von Werkstoffe gezielt mit Metallionen zu implantieren and dadurch z.B. die haffestikeit einer anschließend abgeschiedenen Auflageschicht signant zuverbessern。beder Schichtherstellung selbist der Zustand des Plasmas entscheidend dafrr, metallische schichtsystem, z.B. auf der Basis von Ti-Al and Ni-Cr sowie keramische MAX-Phasen dnnschichtsysteme gezielt in ihrer微结构和结构修饰的结构和损伤Oberflächen-Funktionalitäten in Sinne der schiele des SPP " Adaptive Oberflächen fr hochtemperature - aturanwendungen " - Das HAUT-Konzept " zu erreichen。

Mit Hilfe von moderner Plasmadiagnostik sollen wesentliche Parameter plasmagestützter Oberflächenverfahren untersucht werden, wie sie beim Ionenätzen von Oberflächen sowie bei der Herstellung von Dünnschichtsystemen eingesetzt werden, unter anderem unter Verwendung des neuen Verfahrens des High Power Impulse Magnetron Sputterns (HI-PIMS). Vorrangiges Ziel ist dabei, eine Korrelation von physikalischen Vorgängen während des Ätz- und Beschichtungsprozesses mit den Eigenschaften der entstehenden Oberflächen und/oder Dünnschichtsysteme herzustellen. Dabei kommt eine Kombination von Quadrupol-Massenspektroskopie, Langmuirsonde und speziellem Hochstrom-Oszilloskop zum Einsatz, die an die im Mikrosekundenbereich ablaufenden Plasmaprozesse angepasst ist. Durch die detaillierte Kenntnis des Plasmazustandes beim Ionenätzen wird es möglich sein, die Oberfläche von Werkstoffe gezielt mit Metallionen zu implantieren und dadurch z.B. die Haftfestigkeit einer anschließend abgeschiedenen Auflageschicht signifikant zu verbessern. Bei der Schichtherstellung selbst ist der Zustand des Plasmas entscheidend dafür, metallische Schichtsysteme, z.B. auf der Basis von Ti-Al und Ni-Cr sowie keramische MAX-Phasen Dünnschichtsysteme gezielt in ihrer Mikrostruktur und Konstitution modifizieren und damit Oberflächen-Funktionalitäten im Sinne der Ziele des SPP „Adaptive Oberflächen für Hochtemperaturanwendungen“ – Das HAUT-Konzept“ zu erreichen.