Study of Microarray Chips to Evaluate Oxidative Stress Induced by Reactive Oxygen Species

微阵列芯片评估活性氧诱导氧化应激的研究

• 批准号: 22510125
• 负责人: BAN Masahito
• 金额: $ 2.75万
• 依托单位: Nippon Institute of Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2010
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2010 至 2012
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-22510125/
• 关键词: フラーレン; インクジェット; マイクロアレイチップ; 活性酸素; 酸化ストレス; 細胞毒; 細胞; ナノチューブ・フラーレン; マイクロ・ナノデバイス; マイクロアレイ; ストレス

The crystalline C_ particleswere three-dimensionally synthesized into m I c r o wells using an ink-jet method, and the PDMS-based microarraychips with reactive oxygenspecies (R O S) generation sources, which generate ROS under visible light irradiation, were fabricated. The cell culture tests using the microarray chips revealed that cytotoxicity induced by ROS was quantitatively evaluated, resulting in creation of the devices to evaluate cellular response to oxidative stress.

采用喷墨法将C_2晶体颗粒三维合成到多个微孔威尔斯中，并制备了具有活性氧（ROS）产生源的PDMS基微阵列芯片。使用微阵列芯片的细胞培养测试揭示了由ROS诱导的细胞毒性被定量评估，从而产生了用于评估细胞对氧化应激的反应的装置。

项目成果

インクジェットにより形成されるC_<60>結晶微粒子の寸法・形態に関する考察

喷墨形成C_<60>晶体细颗粒尺寸与形貌的思考

• 发表时间: 2011
• 作者: 小林光太郎;佐々木扶紗子;伴雅人
• 通讯作者: 伴雅人

Photosensitizing crystalline C60particles encapsulated in PDMS-based microchamber by ink-jet method

通过喷墨法将光敏晶体 C60 颗粒封装在基于 PDMS 的微室中

• 发表时间: 2010
• 作者: F. Sasaki;T. Hirose;M. Ban
• 通讯作者: M. Ban

Formation of photosensitizingcrystalline C_ particles by ink-jet method

喷墨法形成光敏结晶C_颗粒

• DOI: 10.4236/wjnse.2012.22014
• 发表时间: 2012
• 期刊: World Journal of Nano Science and Engineering
• 作者: M. Ban;F. Sasaki
• 通讯作者: F. Sasaki

Application of microstructures formed by plasma and ink-jet processing to cell culture

等离子体和喷墨加工形成的微结构在细胞培养中的应用

• 发表时间: 2012
• 期刊: 日本工業大学研究報告
• 作者: M. Ban;F. Sasaki;M. Ban
• 通讯作者: M. Ban

インクジェット法によるC_<60>結晶微粒子の形成とその活性酸素生成評価

利用喷墨法的C_<60>结晶微粒的形成及活性氧产生的评价

• 发表时间: 2010
• 期刊: 日本工業大学研究報告
• 作者: Y. Kunisada;H.Nakanishi;W. A. Dino;H. Kasai;伴雅人
• 通讯作者: 伴雅人