Elucidation of Mechanism of Film Hardening of Amorphous CarbonsBased on the High-Resolution Laser Spectroscopy

基于高分辨率激光光谱阐明非晶碳膜硬化机理

基本信息

  • 批准号:
    22560020
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3.08万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2010
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2010 至 2012
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

The following results are obtained in this project.(1) The precursors of the nitrogen atoms in amorphous carbon nitride films are identified, and films possessing high-nitrogen contents are successfully fabricated.(2) The mechanism of the decomposition of the starting molecules are elucidated for the ECR plasma and microwave-discharge flow of rare gases.(3) Mechanism of the film hardening of amorphous carbon and related materials are elucidated upon the application of radio-frequency bias voltage to the substrates.
(1)鉴定出非晶态氮化碳膜中氮原子的前体,并成功制造了具有高氮含量的膜。(2)构成了ECR血浆和微型摄取(3)的机制的启动分子的分解机制(3. 3. 3)的机制。在将射频偏置电压应用于底物时,阐明了无定形碳和相关材料。

项目成果

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专利数量(0)
Precursors of a-CNx(:H) films from the decompositions of BrCN and CH3CN with the discharged products of Ar
BrCN 和 CH3CN 分解以及 Ar 放电产物产生的 a-CNx(:H) 薄膜的前体
  • DOI:
    10.1016/j.diamond.2011.12.026
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4.1
  • 作者:
    H. Ito;A. Yamamoto;H. Araki;and A. Wada
  • 通讯作者:
    and A. Wada
Local structural analysis of a-SiCx:H films formed by decomposition of tetramethylsilane in microwave discharge flow of Ar
Ar微波放电流中四甲基硅烷分解形成的a-SiCx:H薄膜的局部结构分析
  • DOI:
    10.1016/j.diamond.2011.01.020
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4.1
  • 作者:
    A. Wada;T. Ogaki;M. Niibe;M. Tagawa;H. Saitoh;K. Kanda;H. Ito
  • 通讯作者:
    H. Ito
BrCNの放電分解によるa-CNx薄膜の形成
BrCN放电分解形成a-CNx薄膜
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    岡田亘太郎;津田哲平,赤坂大樹,斎藤 秀俊,伊藤治彦
  • 通讯作者:
    津田哲平,赤坂大樹,斎藤 秀俊,伊藤治彦
Arの放電フローによるBrCNおよびCH_3CNの分解:a-CN_x(:H)膜の前駆体
Ar放电流分解BrCN和CH_3CN:a-CN_x(:H)薄膜的前驱体
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    山元愛弓;新木一志;和田晃;伊藤治彦
  • 通讯作者:
    伊藤治彦
Arのマイクロ波放電フロー中でのヘキサメチルジシランの分解を用いた a-SiC_x:H膜の形成」高周波プラズマCVDによる高窒素含有a-CN_x:H 薄膜の形成
“利用Ar微波放电流中六甲基乙硅烷的分解来形成a-SiC_x:H膜” “通过高频等离子体CVD形成高氮含量a-CN_x:H薄膜”
  • DOI:
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    熊倉基起;斎藤秀 俊、伊藤治彦
  • 通讯作者:
    斎藤秀 俊、伊藤治彦
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

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{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

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    19560699
  • 财政年份:
    2007
  • 资助金额:
    $ 3.08万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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    14550721
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    2002
  • 资助金额:
    $ 3.08万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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    2001
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    $ 3.08万
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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    $ 3.08万
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)

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  • 财政年份:
    2019
  • 资助金额:
    $ 3.08万
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{{ showInfoDetail.title }}

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