Elucidation of Mechanism of Film Hardening of Amorphous CarbonsBased on the High-Resolution Laser Spectroscopy
基于高分辨率激光光谱阐明非晶碳膜硬化机理
基本信息
- 批准号:22560020
- 负责人:
- 金额:$ 3.08万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2010
- 资助国家:日本
- 起止时间:2010 至 2012
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
The following results are obtained in this project.(1) The precursors of the nitrogen atoms in amorphous carbon nitride films are identified, and films possessing high-nitrogen contents are successfully fabricated.(2) The mechanism of the decomposition of the starting molecules are elucidated for the ECR plasma and microwave-discharge flow of rare gases.(3) Mechanism of the film hardening of amorphous carbon and related materials are elucidated upon the application of radio-frequency bias voltage to the substrates.
(1)鉴定出非晶态氮化碳膜中氮原子的前体,并成功制造了具有高氮含量的膜。(2)构成了ECR血浆和微型摄取(3)的机制的启动分子的分解机制(3. 3. 3)的机制。在将射频偏置电压应用于底物时,阐明了无定形碳和相关材料。
项目成果
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专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Precursors of a-CNx(:H) films from the decompositions of BrCN and CH3CN with the discharged products of Ar
BrCN 和 CH3CN 分解以及 Ar 放电产物产生的 a-CNx(:H) 薄膜的前体
- DOI:10.1016/j.diamond.2011.12.026
- 发表时间:2012
- 期刊:
- 影响因子:4.1
- 作者:H. Ito;A. Yamamoto;H. Araki;and A. Wada
- 通讯作者:and A. Wada
Local structural analysis of a-SiCx:H films formed by decomposition of tetramethylsilane in microwave discharge flow of Ar
Ar微波放电流中四甲基硅烷分解形成的a-SiCx:H薄膜的局部结构分析
- DOI:10.1016/j.diamond.2011.01.020
- 发表时间:2011
- 期刊:
- 影响因子:4.1
- 作者:A. Wada;T. Ogaki;M. Niibe;M. Tagawa;H. Saitoh;K. Kanda;H. Ito
- 通讯作者:H. Ito
BrCNの放電分解によるa-CNx薄膜の形成
BrCN放电分解形成a-CNx薄膜
- DOI:
- 发表时间:2011
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:岡田亘太郎;津田哲平,赤坂大樹,斎藤 秀俊,伊藤治彦
- 通讯作者:津田哲平,赤坂大樹,斎藤 秀俊,伊藤治彦
Arの放電フローによるBrCNおよびCH_3CNの分解:a-CN_x(:H)膜の前駆体
Ar放电流分解BrCN和CH_3CN:a-CN_x(:H)薄膜的前驱体
- DOI:
- 发表时间:2011
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:山元愛弓;新木一志;和田晃;伊藤治彦
- 通讯作者:伊藤治彦
Arのマイクロ波放電フロー中でのヘキサメチルジシランの分解を用いた a-SiC_x:H膜の形成」高周波プラズマCVDによる高窒素含有a-CN_x:H 薄膜の形成
“利用Ar微波放电流中六甲基乙硅烷的分解来形成a-SiC_x:H膜” “通过高频等离子体CVD形成高氮含量a-CN_x:H薄膜”
- DOI:
- 发表时间:2013
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:熊倉基起;斎藤秀 俊、伊藤治彦
- 通讯作者:斎藤秀 俊、伊藤治彦
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