Development of wide range-nanometer resolution-real time measurement system of charged up specimen irradiated by electron beam
电子束辐照带电样品宽范围纳米分辨率实时测量系统的研制
基本信息
- 批准号:22560026
- 负责人:
- 金额:$ 2.75万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2010
- 资助国家:日本
- 起止时间:2010 至 2012
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
Electrostatic force microscope system has been successfully completed to measure the potential distribution of a charged up insulator surface by electron beam irradiation. It is shown that the potential distribution built on a photo-mask, where an insulating film is on a conductive substrate, varies largely with the accelerating voltage and the current of the electron beam. On the other hand, we develop an electron trajectory simulation considering the behavior of electrons inside and outside of the specimen, and the result agrees well with the experimental result.
研制了一套静电力显微镜系统,用于测量电子束辐照带电绝缘子表面的电位分布。结果表明,在导电衬底上有绝缘膜的光掩模上建立的电位分布随电子束的加速电压和电流而发生很大变化。另一方面,我们发展了一个电子轨道模拟,考虑了电子在样品内外的行为,其结果与实验结果吻合得很好。
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Measurement of surface potential of a resist film irradiated by electron beam
电子束照射抗蚀剂膜表面电位的测量
- DOI:
- 发表时间:2011
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:J. Yuhara;K. Daisuke;T. Matsui;S. Mizuno;A. Suzuki and T. Ikari;M.Kotera
- 通讯作者:M.Kotera
走査電子顕微鏡内における絶縁体薄膜の表面電位測定
使用扫描电子显微镜测量绝缘体薄膜的表面电位
- DOI:
- 发表时间:2011
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Akio Suzuki;Takayuki Mori;Atsuhiko Fukuyama;Tetsuo Ikari;Ji-Hyun Paek;Masahito Yamaguchi;小寺正敏
- 通讯作者:小寺正敏
電子ビーム照射を受けた絶縁体薄膜の放電特性
电子束照射下绝缘体薄膜的放电特性
- DOI:
- 发表时间:2013
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Mori;Y. Motono;W. Ding;A. Fukuyama;T.Yamaguchi;and T. Ikari;熊谷健太朗,大谷優,小原康寛,小寺正敏
- 通讯作者:熊谷健太朗,大谷優,小原康寛,小寺正敏
Measurement of surface potential distribution of resist irradiated by fogging electrons
雾化电子辐照抗蚀剂表面电位分布的测量
- DOI:
- 发表时间:2011
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Akira Osada;Masaru Otani;YasuhiroOhara and Masatoshi Kotera
- 通讯作者:YasuhiroOhara and Masatoshi Kotera
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
KOTERA Masatoshi其他文献
KOTERA Masatoshi的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
{{ truncateString('KOTERA Masatoshi', 18)}}的其他基金
Multiscale analysis of charging phenomena to reduce the effects of charging in electron beam lithography
充电现象的多尺度分析,以减少电子束光刻中充电的影响
- 批准号:
16K06324 - 财政年份:2016
- 资助金额:
$ 2.75万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
DEVELOPMENT OF AN IMAGING TECHNIQUE OF MAGNETIC FLUX PENETRATING THROUGH SUPERCONDUCTING FILM
磁通量穿透超导薄膜成像技术的开发
- 批准号:
07650518 - 财政年份:1995
- 资助金额:
$ 2.75万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
A PRODUCTION OF AN ELECTROSTATIC SCANNING ELECTRON MICROSCOPE
静电扫描电子显微镜的研制
- 批准号:
03650361 - 财政年份:1991
- 资助金额:
$ 2.75万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)