Multiscale analysis of charging phenomena to reduce the effects of charging in electron beam lithography
Multiscale analysis of charging phenomena to reduce the effects of charging in electron beam lithography
充电现象的多尺度分析，以减少电子束光刻中充电的影响
批准号：
16K06324
负责人：
KOTERA Masatoshi
金额：
$3.0万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2016
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2016-04-01 至 2019-03-31
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Time evolution simulation of scattered electrons in scanning electron microscope specimen chamber
扫描电镜样品室中散射电子的时间演化模拟
扫描电镜样品室中散射电子的时间演化模拟
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Takatoshi Donga, Yuka Ito, Masatoshi Kotera]
通讯作者：
Masatoshi Kotera
EB照射後の絶縁体試料表面電位のワーキングディスタンスと印加バイアス依存性
EB 照射后绝缘体样品表面电势的工作距离和施加偏压依赖性
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DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Y. Kanai, R. Itagaki, S. Greaves, and H. Muraoka, 東海昌司，河本拓也，小寺正敏]
通讯作者：
東海昌司，河本拓也，小寺正敏
走査電子顕微鏡内のフォギング電流測定
扫描电子显微镜内的雾化电流测量
扫描电子显微镜内的雾化电流测量
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[M. Nishikawa, Y. Nakamura, Y. Okamoto, H. Osawa, and Y. Kanai, 野田 拓，小寺正敏]
通讯作者：
野田 拓，小寺正敏
最近の国際会議発表
近期国际会议报告
近期国际会议报告
DOI：
--
发表时间：
期刊：
影响因子：
--
作者：
[]
通讯作者：
ファラデーカップ設計のための電子散乱シミュレーション
法拉第杯设计的电子散射模拟
法拉第杯设计的电子散射模拟
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[S. Greaves, K. S. Chan, and Y. Kanai, 頓花貴俊，伊藤優花，小寺正敏]
通讯作者：
頓花貴俊，伊藤優花，小寺正敏
共 49 条
Development of wide range-nanometer resolution-real time measurement system of charged up specimen irradiated by electron beam
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批准号：22560026
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$2.75万
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财政年份：2010
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负责人：KOTERA Masatoshi
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依托单位：
DEVELOPMENT OF AN IMAGING TECHNIQUE OF MAGNETIC FLUX PENETRATING THROUGH SUPERCONDUCTING FILM
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批准号：07650518
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额：$1.34万
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财政年份：1995
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负责人：KOTERA Masatoshi
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依托单位：
A PRODUCTION OF AN ELECTROSTATIC SCANNING ELECTRON MICROSCOPE
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批准号：03650361
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项目类别：Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额：$1.28万
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财政年份：1991
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负责人：KOTERA Masatoshi
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依托单位：
海外基金