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gas-surface reaction in sputtering process for transparent conductive oxide

gas-surface reaction in sputtering process for transparent conductive oxide
透明导电氧化物溅射过程中的气体表面反应
批准号：
22760561
负责人：
OHTA Takayuki
金额：
$2.25万
依托单位：
Meijo University (2011)Wakayama University (2010)
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2010
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2010 至 2011
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-22760561/
关键词：
プラズマスパッタリング透明導電膜吸収分光表面反応

项目摘要

项目成果

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Sputtering processes have been widely used as thin film deposition in various fields. In this study, we focused on Indium-zinc-oxide(IZO) and Gallium doped zinc-oxide(GZO) as transparent conductive oxide and investigated gas phase. surface reaction. We monitored In and Zn densities and clarified the relation between radical composition, film composition, and electrical property such as resistivity, carrier density and mobility.
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会议论文
Behaviors of metastable He atoms in the multi-Micro Hollow Cathode Lamp measured by laser absorption spectroscopy
激光吸收光谱测量多微型空心阴极灯中亚稳态He原子的行为
DOI： --
发表时间： 2011
期刊：
影响因子： --
作者： [M. Inoue, T. Ohta, T. Kanae, M. Ito, M. Hori]
通讯作者： M. Hori
レーザ吸収分光法を用いたマイクロホローカソード放電中の準安定He原子の挙動
使用激光吸收光谱研究微空心阴极放电过程中亚稳态 He 原子的行为
DOI： --
发表时间： 2011
期刊：
影响因子： --
作者： [井上真里, 太田貴之, 家苗毅司, 伊藤昌文, 加納浩之, 山川晃司, 堀勝]
通讯作者： 堀勝
Kinetics of metastable He atom middle pressure in micro hollow cathode discharge
微空心阴极放电亚稳态He原子中压动力学
DOI： --
发表时间： 2011
期刊：
影响因子： --
作者： [M. Inoue, T. Ohta, T. Kanae, M. Ito, M. Hori]
通讯作者： M. Hori
Behavior of Metastable He Atom in the Multi-Micro Hollow Cathode Lamp Measured by Laser Absorption Spectroscopy
激光吸收光谱测量多微型空心阴极灯中亚稳态He原子的行为
DOI： --
发表时间： 2011
期刊：
影响因子： --
作者： [M. Inoue, T. Ohta, T. Kanae, M. Ito, K. Yamakawa, M. Hori]
通讯作者： M. Hori
共 16 条
    simultaneous monitoring of multi-metallic atoms on sputtering process
    • 批准号：
      19760508
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
    • 资助金额：
      $2.09万
    • 财政年份：
      2007
    • 负责人：
      OHTA Takayuki
    • 依托单位：
      Wakayama University
    海外基金