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simultaneous monitoring of multi-metallic atoms on sputtering process

simultaneous monitoring of multi-metallic atoms on sputtering process
溅射过程中多金属原子的同步监测
批准号:
19760508
负责人:
OHTA Takayuki
金额:
$2.09万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2007
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2007 至 2008

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
スパッタプロセスは, 非常に幅広い薄膜プロセスに用いられている. 本研究では, 高機能薄膜を高品質に形成するために, スパッタプラズマ中の数種類の金属原子密度を同時にモニタリングする技術の開発を目的とした. 具体的には, 金属原子密度測定用の吸収分光用光源の開発し, 透明導電膜製膜スパッタプラズマ中のInとZn原子密度の同時モニタリングを行い, 金属原子の絶対密度計測に成功した.
英文摘要
スパッタプロセスは, 非常に幅広い薄膜プロセスに用いられている. 本研究では, 高機能薄膜を高品質に形成するために, スパッタプラズマ中の数種類の金属原子密度を同時にモニタリングする技術の開発を目的とした. 具体的には, 金属原子密度測定用の吸収分光用光源の開発し, 透明導電膜製膜スパッタプラズマ中のInとZn原子密度の同時モニタリングを行い, 金属原子の絶対密度計測に成功した.
期刊论文(0)
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会议论文
DOI: --
发表时间: 2008
期刊:
影响因子: --
作者: [田子多直樹, 太田貴之, 伊藤昌文, 東島康裕, 加納浩之, 田昭治, 堀勝]
通讯作者: 堀勝
Effects of cathode dimension on plasma characteristics of multi-micro hollow cathode lamp
阴极尺寸对多微型空心阴极灯等离子体特性的影响
DOI: --
发表时间: 2008
期刊:
影响因子: --
作者: [Hori T. Ohta, Y. Tachibana, N. Takota, M. Ito, S. Takashima, Y. Higashijima, H. Kano, S. Den, M.]
通讯作者: M.
DOI: --
发表时间: 2009
期刊:
影响因子: --
作者: [田子多直樹, 家苗毅司, 太田貴之, 伊藤昌文, 東島康裕, 加納浩之, 田昭治, 堀勝]
通讯作者: 堀勝
DOI: --
发表时间: 2007
期刊:
影响因子: --
作者: [Z.Kato, J.Bhattarai, K.Izumiya, N.Kumaga, K.Hashimoto, 橘 善洋]
通讯作者: 橘 善洋
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    gas-surface reaction in sputtering process for transparent conductive oxide
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