Preparation of Solvatophilic Ionpair and its Applications for Functional Polyelectrolytes

亲溶剂离子对的制备及其在功能聚电解质中的应用

• 批准号: 23350048
• 负责人: SADA KAZUKI
• 金额: $ 12.15万
• 依托单位: Hokkaido University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
• 财政年份: 2011
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2011-04-01 至 2014-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-23350048/
• 关键词: 高分子電解質; 親媒質性イオン; イオン解離; 超分子化学; 温度応答性高分子; 静電反発; 刺激応答性高分子; 高分子ブラシ; イオン対; ラジカル重合; 両親媒性分子; 静電斥力; テトラフェニルボレート; 有機溶媒

We demonstrated the molecular design of solvatophilic polyelectrolytes that have both solvatophilic polymer chain and bulky and large ion-pair surrounded by solvatophilic groups. Their characteristic feature is expansion of the polymer chains largely in the suitable media due to electrostatic repulsion among the dissociated ions. So far, we revealed that the solvatophilic ion-pairs act as the strong solubilizing group against various intermolecular interactions and control their solubility and aggregation ability. We further applied them to prepare polymer brush and stimuli-sensitive polymers. Moreover, this result inspired us to create a new series of thermo-sensitive polymer systems by controlling supramolecular interactions between the polymer chain and small molecules. In conclusion, this work clearly suggested the utility of electrostatic repulsion in various media as supramolecular interaction, which should contribute to development of various functional materials.

我们证明了具有溶泡液聚合物链，笨重的和大离子对的分子设计，这些聚合物链被溶解溶剂组包围。 它们的特征是由于离子离子之间的静电排斥，在合适介质中的聚合物链的扩展。 到目前为止，我们透露，溶溶性离子对起着强大的溶解组，以对各种分子间相互作用并控制其溶解度和聚集能力。 我们进一步应用它们来制备聚合物刷和刺激敏感的聚合物。 此外，这一结果激发了我们通过控制聚合物链和小分子之间的超分子相互作用来创建一系列热敏感的聚合物系统。 总之，这项工作清楚地表明，在各种培养基中，静电排斥作为超分子相互作用的实用性，这应该有助于开发各种功能材料。

项目成果

アニオンレセプターの錯形成を利用した刺激応答性ゲルの膨潤制御

使用阴离子受体络合控制刺激响应凝胶的膨胀

• 发表时间: 2011
• 作者: Q.Ye;T.Akutagawa;T.Endo;S.Noro;T.Nakamura;R.Xiong;S.Hata;塩野毅;加藤拓路・中建介・有田学・森崎泰弘・中條善樹;伊勢田一也,羽毛田洋平,小門憲太,前田大光,佐田和己
• 通讯作者: 伊勢田一也,羽毛田洋平,小門憲太,前田大光,佐田和己

多孔質性配位高分子を鋳型とするネットワークポリマーの合成

以多孔配位聚合物为模板合成网络聚合物

• 发表时间: 2011
• 作者: T. Komatsu;H. Terada;N.;石渡拓己,杉川幸太,古川雄基,小門健太,佐田和己
• 通讯作者: 石渡拓己,杉川幸太,古川雄基,小門健太,佐田和己

正四面体型５価アニオンの合成とイオン解離能の評価

四面体五价阴离子的合成及离子解离能力评价

• 发表时间: 2012
• 作者: 坂本伸仁;小門憲太;佐田和己
• 通讯作者: 佐田和己

アントラセン修飾Metal-Organic Frameworksにおけるゲスト分子の放出制御

蒽改性金属有机框架中客体分子的受控释放

• 发表时间: 2011
• 作者: M. Foston;C. Hubbell;D.-Y. Park;F. Cook;Y. Tezuka;H. W. Beckham;永田俊次郎・杉川幸太・小門憲太・佐田和己
• 通讯作者: 永田俊次郎・杉川幸太・小門憲太・佐田和己

Metal-Organic Frameworkを鋳型とした3次元ネットワークポリマーの構築

以金属有机框架为模板构建3D网络聚合物

• 发表时间: 2011
• 作者: 石渡拓己;古川雄基;杉川幸太;小門憲太;佐田和己
• 通讯作者: 佐田和己