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Fabrication of single cell isolation structure and very narrow slit cell separation microchannel by semiconductor processing

Fabrication of single cell isolation structure and very narrow slit cell separation microchannel by semiconductor processing
半导体加工制作单细胞隔离结构和极窄缝细胞分离微通道
批准号:
23510141
负责人:
MATSUTANI Akihiro
金额:
$3.33万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2011
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2011 至 2013

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
本研究采用Ar/F2气相刻蚀工艺制备了无盖板的硅基微通道。我们成功地在微通道中运输了大肠杆菌细胞。我们还采用Ar/F2气相刻蚀和Cl2-ICP刻蚀工艺制作了无上盖板的硅基两步微通道。我们认为,利用所提出的技术缩短分析时间,有望在食物中毒等细胞研究、药物开发和快速反应检测方面取得进展。我们提出了一种由多柱微胶囊组成的筛分微生物细胞分离装置。只需滴加混合物,就可以将大肠杆菌和酿酒酵母的单个细胞分别捕获在更小和更大的微胶囊中。此外,我们还成功地在激光晶圆表面制作了多柱微胶囊。在本研究中,我们建立了利用微通道和微胶囊进行单细胞分离和细胞分离的基本技术。
英文摘要
In this research, Si-based microchannels without cover plates were fabricated by the Ar/F2 vapor etching process. We succeeded in the transport of E. coli cells in the microchannel. We also fabricated Si-based two-step microchannels without top cover plates by Ar/F2 vapor etching and Cl2-ICP etching processes. We think that the development of cell research, drug discovery, and rapid response measurement such as in food poisoning can be expected by shortening the analysis time using the proposed techniques.We propose a size sieving microbial cell separation apparatus consist of multipillar microenclosures. Single cells of Escherichia coli and Saccharomyces cerevisiae were separately captured in smaller and lager microenclosures just by dropping mixtures. Moreover, we succeeded in making multipillar microenclosures on surface emitting laser wafers.In this research, basic technologies on single cell isolation and cell separation using microchannel and microenclosure were established.
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
DOI: --
发表时间: 2011
期刊:
影响因子: --
作者: [Yayoi Yoshioka (Ed.: Shishir Sinha & N.K. Navani, Exec. Ed.: J.N. Govil), 中原広道, 松谷晃宏,髙田綾子]
通讯作者: 松谷晃宏,髙田綾子
InP 基板上に製作したマイクロ囲いを用いた出芽酵母の培養
使用 InP 基底上制造的微外壳培养酿酒酵母
DOI: --
发表时间: 2013
期刊:
影响因子: --
作者: [浅尾勝哉, 吉岡弥生, 柴田 攻, 松谷晃宏,髙田綾子]
通讯作者: 松谷晃宏,髙田綾子
DOI: --
发表时间: 2012
期刊:
影响因子: --
作者: [吉岡弥生, 浅尾勝哉, 松谷晃宏,高田綾子, 吉岡弥生, 中原広道, 柴田攻, A. Matsutani and A. Takada]
通讯作者: A. Matsutani and A. Takada
Microfabrication of Si and GaAs by Plasma Etching Process Using Bacterial Cells as an Etching Mask Material
使用细菌细胞作为蚀刻掩模材料通过等离子体蚀刻工艺微加工 Si 和 GaAs
DOI: 10.1143/jjap.51.087001
发表时间: 2012
期刊: Jpn. J. Appl. Phys
影响因子: --
作者: [吉岡弥生, 浅尾勝哉, A. Matsutani and A. Takada]
通讯作者: A. Matsutani and A. Takada
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    AStudy on Dry etching of C_aF_2using H_2O Vapor Plasma and Solid Source H_2O Plasma
    • 批准号:
      18510108
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $2.02万
    • 财政年份:
      2006
    • 负责人:
      MATSUTANI Akihiro
    • 依托单位:
    海外基金