Liquid phase growth of nitride semiconductors by using plasma mixture of nitrogen and hydrogen
利用氮氢等离子体混合物液相生长氮化物半导体
基本信息
- 批准号:23560014
- 负责人:
- 金额:$ 3.33万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2011
- 资助国家:日本
- 起止时间:2011 至 2013
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
GaN single crystals of wurtzite structure were grown on the AlN/Al2O3 substrate by reacting gallium metal with atomic nitrogen-hydrogen in a microwave plasma. AlN/Al2O3 substrates were prepared by nitriding (0001) sapphire substrates with atomic nitrogen in a microwave plasma. GaN layer of about 10 m was grown on AlN/Al2O3 substrate with a growth rate of 2.5 m/h. It was found that the layer was nearly oriented to (0001)GaN//(0001) sapphire by X-ray diffraction (XRD) measurement. PL spectrum showed a strong band edge emission at 3.3 eV at room temperature without a yellow emission due to deep level. A full-width at half-maximum was approximately 230 meV. These properties suggest high crystalline GaN was grown on the AlN/Al2O3 substrate by solution growth under nitrogen and hydrogen plasma mixture. InxGa1-xN(x<0.15)single crystals were also grown by our methods.
在微波等离子体中,金属镓与原子氮氢反应,在AlN/Al2O3衬底上生长出纤锌矿结构的GaN单晶。用原子氮在微波等离子体中氮化(0001)蓝宝石衬底,制备了AlN/Al2O3衬底。在AlN/Al2O3衬底上生长出约10 ;m的GaN层,生长速度为2.5 m/h。通过x射线衍射(XRD)测试发现,该层接近于(0001)GaN//(0001)蓝宝石取向。在3.3 eV的室温下,PL光谱显示出较强的带边发射,没有由于深能级引起的黄色发射。半最大值时的全宽度约为230 meV。这些特性表明,在氮氢等离子体混合物的溶液生长下,在AlN/Al2O3衬底上生长出了高结晶GaN。用我们的方法也生长出了InxGa1-xN(x<0.15)单晶。
项目成果
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专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
GaN single crystals by solution growth under atomic nitrogen and hydrogen plasma mixture
氮氢原子等离子体混合物溶液生长GaN单晶
- DOI:
- 发表时间:2011
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Ozawa;N. Harada;M. Dohi;and Y. Hayakawa
- 通讯作者:and Y. Hayakawa
Al-doped ZnO electrode formation for dye sensitized solarcell by gas evaporation method
气体蒸发法形成染料敏化太阳能电池Al掺杂ZnO电极
- DOI:
- 发表时间:2013
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Minoru Dohi;Ryo Koizumi;Tetsuo Ozawa
- 通讯作者:Tetsuo Ozawa
AlN single crystal growth on sapphire substrate under atomic nitrogen plasma
原子氮等离子体在蓝宝石衬底上生长 AlN 单晶
- DOI:
- 发表时间:2013
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Tetsuo Ozawa;Kiyohiko Katsumata;Minoru Dohi;and Yasuhiro Hayakawa
- 通讯作者:and Yasuhiro Hayakawa
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