遷移金属酸化物ナノ構造体における超巨大物性発現とナノデバイス展開
遷移金属酸化物ナノ構造体における超巨大物性発現とナノデバイス展開
批准号:
11J03950
负责人:
高見 ヒデフミ (2013)
金额:
$1.22万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2011
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2011 至 2013
中文摘要
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
私は、多彩な物性および外場に対する巨大応答を示す3d遷移金属酸化物のうち、二酸化バナジウム(VO_2)のナノ構造に関する研究を行っている。VO_2は341Kにおいて結晶構造変化を伴う急峻な金属-絶縁体転移を示す材料であり、Wドープにより相転移が室温で発現すると共に、ナノサイズの領域において金属相と絶縁相のドメインに分離することが報告された強相関電子系材料である。私はWドープVO_2薄膜の単一ナノドメインの物性を抽出・制御し、従来の薄膜デバイス特性を遥かに凌駕した室温で動作する超高性能スイッチング素子への応用を考え、実現することを目的としている。前年度までに私は、1. ナノインプリントを用いたVO_2ナノ構造作製技術の確立および2. 作製した2端子ナノデバイスにおける電気抵抗の温度依存性において最大10万%/Kの変化率を伴う単一電子相由来の階段状金属-絶縁体転移を発現させることに成功してきた。当該年度は、この巨大金属-絶縁体転移を電気的に制御することを目指し、ドメイン相界面で発現するペルチェ冷却効果を用いることで、高温で安定である金属ドメインから低温で安定である絶縁体ドメインへ電気的に不揮発で制御できることを世界で初めて明らかにした。従来、VO_2の2端子素子における電気制御は、絶縁体から金属相への一方向しか達成されておらず、不揮発メモリ動作に必須である書き込みと消去の両方を達成した報告例は無かった。私は、VO_2を微細加工してドメイン配列を一次元化させることができれば、ドメイン界面に電流が流れ、熱電効果のひとつであるペルチェ冷却効果が使えることに着目し、この問題点を克服した。このことにより、Si材料の微細加工による性能向上限界を迎えつつある半導体業界に対し、新しい機能性材料創出というイノベーションを起こすことができ、科学技術の進歩による豊かで安心・安全な社会の発展に大きく貢献できる。
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
登录
查看更多内容
Investigation of digital metal-insulator transition for tailor-made VO_2 nanowires on Al_2O_3 (0001) substrates
Al_2O_3 (0001) 基底上定制 VO_2 纳米线的数字金属-绝缘体转变研究
DOI:
--
发表时间:
2013
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Uemura F., Kitaoka T, H. Takami]
通讯作者:
H. Takami
Multistep metal insulator transition in V0_2 nanowires on Al_2O_3 (0001) substrates
Al_2O_3 (0001) 衬底上 V0_2 纳米线的多步金属绝缘体转变
DOI:
--
发表时间:
2014
期刊:
Applied Physics Letters
影响因子:
4
作者:
[H. Takami, T. Kanki and H. Tanaka]
通讯作者:
T. Kanki and H. Tanaka
Tuning metal-insulator transition by one dimensional alignment of giant electronic domains in artificially size-controlled epitaxial VO_2 wires
通过人工尺寸控制外延 VO_2 线中巨型电子域的一维对准来调节金属-绝缘体转变
DOI:
10.1063/1.4773371
发表时间:
2012
期刊:
Applied Physics Letters
影响因子:
4
作者:
[H. Takami, et al.]
通讯作者:
et al.
TiO2(001)基板上のVO2ワイヤーにおける金属-絶縁体ドメイン配列の次元性評価
TiO2(001) 基底上 VO2 线金属-绝缘体畴排列维数的评估
DOI:
--
发表时间:
2012
期刊:
影响因子:
--
作者:
[T. Ishiyama, M. Higuchi, T. Obata, Y. Kamiura, K. Tadaand M. Onoda, 尾崎信彦, 村上尚, 高見英史]
通讯作者:
高見英史
Fabrication of epitaxial VO2 nanostructured thin films using a nanoimprint lithography technique
使用纳米压印光刻技术制备外延 VO2 纳米结构薄膜
DOI:
--
发表时间:
2011
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Takeshi Ishiyama, Tsutomu Fujii, Yuya Ishii, Mitsuo Fukuda, 尾崎信彦, 岡本浩, H. Takami]
通讯作者:
H. Takami
共 13 条
海外基金