ローンペア酸化物における電子局在性制御による材料設計指針の構築
通过控制孤对氧化物中的电子局域化来构建材料设计指南
基本信息
- 批准号:12J02558
- 负责人:
- 金额:$ 2.32万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
- 财政年份:2012
- 资助国家:日本
- 起止时间:2012-04-01 至 2015-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
2価Snを有する酸化物において,ローンペア電子と呼ばれる孤立電子対は試料の電子構造と結晶構造の両面において重要な役割を担っている.本研究では,ローンペア電子を有する酸化スズ(SnO)について,電子物性測定やX線光電子分光法等の実験手法と,第一原理計算の双方からアプローチすることで,ローンペア電子と物性の相関に関して評価を行うことを目的としている.平成26年度には,パルスレーザー堆積法により作製したヘテロ界面試料の断面透過電子顕微鏡(TEM)観察を行った.SnOとY添加ZrO2(YSZ)単結晶基板とのヘテロ界面において断面TEM観察を行い,界面構造を詳しく調べた結果,SnOとYSZの結晶は第二相や不純物などのない急峻な界面を有していることがわかった.また,X線光電子分光測定により価電子帯上端や内殻の電子状態の測定を行った.X線電子分光の結果と第一原理計算の結果を合わせて考慮すると,ローンペア電子は価電子帯上端に状態密度を有し,正孔の伝導に寄与していることが示唆された.また,試料の作製条件とフェルミ準位の関係を評価した結果,成膜時の酸素分圧によってフェルミ準位がシフトし,試料の電気伝導性をp型からn型まで制御可能であることを明らかにした.n型試料における電子移動度は,p型試料における正孔移動度と同程度かそれよりも高く,伝導帯下端が比較的広がったSnの軌道により構成されていることと矛盾しない.また,n型試料における電子の活性化エネルギーはp型試料において求めた正孔の活性化エネルギーよりも高く,第一原理計算による欠陥形成エネルギーの結果と同様の傾向がみられた.
2. Sn is an acid compound, and the isolated electrons are responsible for the electron structure and crystal structure of the sample. In this research, we will discuss the practical methods of electronic physical property measurement and X-ray photoelectron spectroscopy, etc., and both first-principles calculations. Therefore, we will conduct an evaluation of the relationship between electronic and physical properties of rona. In 2006, the sample interface was examined by electron microscope (TEM).SnO and Y doped ZrO2 (YSZ) crystal substrates were examined by TEM. The interface structure was adjusted in detail. The results showed that SnO and YSZ crystal substrates had second phase impurities. The results of X-ray photoelectron spectroscopy and first-principle calculations were combined to consider the density of state at the upper end of the electron band, the conduction of positive holes and the transmission of positive holes. As a result of evaluating the relationship between the preparation conditions of the sample and the pore level, the acid partial pressure at the time of film formation is high, the electrical conductivity of the sample is high, and the electron mobility is high. The lower end of the guide band is compared with the lower end of the guide band. For n-type samples, the electron activation process was performed on the p-type samples. For first-principles calculations, the electron activation process was performed on the positive pores.
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
PLD法によるSn_2Nb_2O_7エピタキシャル薄膜の作製
PLD法制备Sn_2Nb_2O_7外延薄膜
- DOI:
- 发表时间:2013
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:片山翔太;小河佑介;林博之;大場史康;田中功
- 通讯作者:田中功
PLD法による無添加SnO薄膜の作製と電気伝導性制御
PLD法无添加剂SnO薄膜的制备及电导率控制
- DOI:
- 发表时间:2014
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:H. Hayashi;S. Katayama;I,Tanaka;林博之,片山翔太,田中功
- 通讯作者:林博之,片山翔太,田中功
Epitaxial growth of tin(II) niobate with a pyrochlore structure
具有烧绿石结构的铌酸锡(II)的外延生长
- DOI:10.1016/j.jcrysgro.2015.01.033
- 发表时间:2015
- 期刊:
- 影响因子:1.8
- 作者:S. Katayama;Y. Ogawa;H. Hayashi;F. Oba;I. Tanaka
- 通讯作者:I. Tanaka
CU_2O/ZnO : M (M=Ga, A1)積層薄膜の結晶配向へのドーパントの影響
CU_2O/ZnO:掺杂剂对 M (M=Ga, A1) 堆叠薄膜晶体取向的影响
- DOI:
- 发表时间:2013
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:塚松祐太;片山翔太;林博之;大場史康;田中功
- 通讯作者:田中功
Atomic and electronic structure of Mn-doped Ga_2O_3 thin films and interfaces with MgAl_2O_4 substrates
Mn掺杂Ga_2O_3薄膜的原子电子结构及其与MgAl_2O_4衬底的界面
- DOI:
- 发表时间:2013
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:小河佑介;片山翔太;林博之;大場史康;田中功;Hiroyuki Hayashi
- 通讯作者:Hiroyuki Hayashi
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