Development of high sensitive holographic recording materials based on wide-bandgap semiconductor
Development of high sensitive holographic recording materials based on wide-bandgap semiconductor
批准号:
23686011
负责人:
FUJIMURA Ryushi
金额:
$9.65万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
财政年份:
2011
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2011-04-01 至 2015-03-31
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DOI:
--
发表时间:
2011
期刊:
影响因子:
--
作者:
[T.Nagai, R.Fujimura, T.Shimura, K.Kuroda]
通讯作者:
K.Kuroda
Photorefractive properties of undoped AlN crystals in the deep UV spectral region
未掺杂 AlN 晶体在深紫外光谱区的光折变特性
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[石井良太, 金田昭男, 船戸充, 川上養一, Ryushi Fujimura and Yuki Kubo]
通讯作者:
Ryushi Fujimura and Yuki Kubo
深紫外励起によるAlN結晶の吸収スペクトル変化
深紫外激发下AlN晶体吸收光谱的变化
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[久保雄紀, 藤村隆史]
通讯作者:
藤村隆史
AIN結晶の深紫外線領域におけるフォトリフラクティブ特性
AIN晶体在深紫外区的光折变特性
DOI:
--
发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
--
作者:
[久保雄紀, 藤村隆史]
通讯作者:
藤村隆史
Study of photorefractive memory using gallium nitride crystals
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批准号:21760035
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额:$2.91万
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财政年份:2009
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负责人:FUJIMURA Ryushi
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依托单位:
海外基金