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Herstellung halbleitender Si-Verbindungen mittels strukturierender Hochdosis-Ionen-Implantation
利用结构化高剂量离子注入生产半导体硅化合物
基本信息
- 批准号：5413987
- 负责人：
- 金额：--
- 依托单位：
- 依托单位国家：德国
- 项目类别：Research Grants
- 财政年份：2003
- 资助国家：德国
- 起止时间：2002-12-31 至 2005-12-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
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项目成果
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