Synthese neuer III-V-Verbindungen und Untersuchungen zur Abscheidung halbleitender Materialien mittels der MOCVD-Methode

新型 III-V 族化合物的合成以及使用 MOCVD 方法沉积半导体材料的研究

基本信息

项目摘要

Ausgehend von den von uns bereits dargestellten Verbindungen vom Typ 1 - 5 sollen Untersuchungen hinsichtlich ihrer Eignung als molekulare Vorstufen für die Abscheidung dünner Filme der entsprechenden III-V-Materialien durchgeführt werden. Darüber hinaus sollen weitere neue Precursoren dargestellt werden. Das Hauptziel sind dabei vor allem Sb-Verbindungen mit den Elementen Al, Ga und In. Diese Verbindungen sollen jedoch im Gegensatz zu den bisher synthetisierten keine Me3Si-Substituenten am Pnikogenatom sondern einfache Alkyl- oder Arylreste tragen. Außerdem soll die Darstellung ternärer Verbindungen des Typs 5 intensiv verfolgt werden.
Ausgehire von den den von un des bereits dargestellten Verbindungen vom Typ 1 - 5 sollen Untersuchungen hinsichtlich ihrer Eignung als molekulare Vorstufen für die Abscheidung dünner Filme der entsprechenden III-V-Materialien durchgeführt韦尔登.新的前体材料必须经过韦尔登。这座建筑物主要是由铝、镓和铟等元素组成的锑系建筑。这些化合物在合成过程中需要更好的条件,而不是在烷基或芳基剩余物中合成甲基3Si取代基。Außerdem soll die Darstellung ternärer Verbindungen des Typs 5 intensiv verfolgt韦尔登。

项目成果

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