Synthese neuer III-V-Verbindungen und Untersuchungen zur Abscheidung halbleitender Materialien mittels der MOCVD-Methode
新型 III-V 族化合物的合成以及使用 MOCVD 方法沉积半导体材料的研究
基本信息
- 批准号:5217434
- 负责人:
- 金额:--
- 依托单位:
- 依托单位国家:德国
- 项目类别:Research Grants
- 财政年份:1999
- 资助国家:德国
- 起止时间:1998-12-31 至 2001-12-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
Ausgehend von den von uns bereits dargestellten Verbindungen vom Typ 1 - 5 sollen Untersuchungen hinsichtlich ihrer Eignung als molekulare Vorstufen für die Abscheidung dünner Filme der entsprechenden III-V-Materialien durchgeführt werden. Darüber hinaus sollen weitere neue Precursoren dargestellt werden. Das Hauptziel sind dabei vor allem Sb-Verbindungen mit den Elementen Al, Ga und In. Diese Verbindungen sollen jedoch im Gegensatz zu den bisher synthetisierten keine Me3Si-Substituenten am Pnikogenatom sondern einfache Alkyl- oder Arylreste tragen. Außerdem soll die Darstellung ternärer Verbindungen des Typs 5 intensiv verfolgt werden.
Ausgehire von den den von un des bereits dargestellten Verbindungen vom Typ 1 - 5 sollen Untersuchungen hinsichtlich ihrer Eignung als molekulare Vorstufen für die Abscheidung dünner Filme der entsprechenden III-V-Materialien durchgeführt韦尔登.新的前体材料必须经过韦尔登。这座建筑物主要是由铝、镓和铟等元素组成的锑系建筑。这些化合物在合成过程中需要更好的条件,而不是在烷基或芳基剩余物中合成甲基3Si取代基。Außerdem soll die Darstellung ternärer Verbindungen des Typs 5 intensiv verfolgt韦尔登。
项目成果
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