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Production of high-density plasma using pulsed glow discharge and its applications for surface treatment

Production of high-density plasma using pulsed glow discharge and its applications for surface treatment
脉冲辉光放电高密度等离子体的制备及其在表面处理中的应用
批准号：
24540530
负责人：
TAKAKI Koichi
金额：
$3.24万
依托单位：
Iwate University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2012
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2012-04-01 至 2015-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-24540530/
关键词：
高密度プラズマパルスパワーHiPIMSプラズマスラスター材料表面改質プラズマ推進表面改質プラズマ

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期刊：
影响因子： --
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通讯作者： 佐藤大樹，高橋和貴，高木浩一，藤原民也
共 42 条
    Production of Hybrid Plasma Based on Shunting Arc Discharge and its Application for Surface Treatments
    • 批准号：
      18340181
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额：
      $8.86万
    • 财政年份：
      2006
    • 负责人：
      TAKAKI Koichi
    • 依托单位：
      Iwate University
    海外基金