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Development of innovative high-efficiency, high-quality finishing method due to the electric field high speed CMP technology

Development of innovative high-efficiency, high-quality finishing method due to the electric field high speed CMP technology
利用电场高速 CMP 技术开发创新的高效、高质量精加工方法
批准号：
24560151
负责人：
AKAGAMI Yoichi
金额：
$3.41万
依托单位：
Akita Industrial Technology Center
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2012
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2012-04-01 至 2015-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-24560151/
关键词：
研磨スラリーサファイア電界砥粒制御研磨技術ＣＭＰ電界砥粒制御技術遊離砥粒研磨砥粒電界

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電界砥粒制御技術が拓く新たな産業応用への展開
电场磨料控制技术开发的新型工业应用
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： [久住孝幸, 佐藤安弘, 池田洋, 赤上陽一, 梅原徳次, 久住孝幸, 久住孝幸, 久住孝幸, 中村竜太, 久住孝幸, 赤上陽一]
通讯作者： 赤上陽一
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发表时间： 2013
期刊： Journal of the Japan Society for Precision Engineering
影响因子： --
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影响因子： --
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发表时间： 2014
期刊：
影响因子： --
作者： [久住孝幸, 佐藤安弘, 池田洋, 赤上陽一, 梅原徳次, 久住孝幸, 久住孝幸, 久住孝幸, 中村竜太, 久住孝幸]
通讯作者： 久住孝幸
共 8 条
    Study of improvement mechanism for highly polishing rate using maintained slurry under electrically controlled
    • 批准号：
      21560138
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $3.0万
    • 财政年份：
      2009
    • 负责人：
      AKAGAMI Yoichi
    • 依托单位：
      Akita Research and Development Center
    Development of slight amount lubricant supply control method by electric field controlled technology for high accuracy and low negative environmental impact processing achievement
    • 批准号：
      18560124
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $2.57万
    • 财政年份：
      2006
    • 负责人：
      AKAGAMI Yoichi
    • 依托单位：
      Akita Research and Development Center
    海外基金