Study of all nitride gate stack with Metal and Insulator HfNx for high mobility channel
高迁移率沟道金属和绝缘体HfNx全氮化物栅叠层的研究
基本信息
- 批准号:24560390
- 负责人:
- 金额:$ 3.49万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2012
- 资助国家:日本
- 起止时间:2012-04-01 至 2015-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Solid phase epitaxy of GeSn alloys on silicon and integration in MOSFET devices
GeSn 合金在硅上的固相外延及其在 MOSFET 器件中的集成
- DOI:
- 发表时间:2014
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Ruben R. Lieten;Tatsuro Maeda;Jin Won Seo;Wipakorn Jevasuwan;Hiroyuki Hattori;Noriyuki Uchida;Shu Miura;Masatoshi Tanaka;Claudia Fleischmanna;Andre Vantomme;Brett C. Johnson;Jean-Pierre Locquet
- 通讯作者:Jean-Pierre Locquet
窒素組成制御によるGe向け金属性HfN/絶縁性HfNx/半導体MIS構造の研究
控制氮成分研究金属HfN/绝缘HfNx/Ge半导体MIS结构
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:三浦 脩;田中 正俊;安田 哲二;前田 辰郎
- 通讯作者:前田 辰郎
窒素組成制御による高移動度チャネル材料向け金属HfN/絶縁性HfNx/半導体MIS構造の研究
控制氮成分的高迁移率沟道材料金属HfN/绝缘HfNx/半导体MIS结构研究
- DOI:
- 发表时间:
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:三浦 脩;田中 正俊;安田 哲二;前田 辰郎
- 通讯作者:前田 辰郎
金属性HfN/絶縁性HfNxによる全窒化膜Geゲートスタックの研究
金属HfN/绝缘HfNx全氮化物Ge栅叠层的研究
- DOI:
- 发表时间:2014
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:三浦 脩;田中 正俊;安田 哲二;前田 辰郎
- 通讯作者:前田 辰郎
窒素組成制御による 金属性HfN/絶縁性HfNx/Ge MIS構造の研究
控制氮成分研究金属HfN/绝缘HfNx/Ge MIS结构
- DOI:
- 发表时间:2013
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:三浦 脩;田中 正俊;安田 哲二;前田 辰郎
- 通讯作者:前田 辰郎
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- 资助金额:
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$ 3.49万 - 项目类别:
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