Study of all nitride gate stack with Metal and Insulator HfNx for high mobility channel

高迁移率沟道金属和绝缘体HfNx全氮化物栅叠层的研究

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Solid phase epitaxy of GeSn alloys on silicon and integration in MOSFET devices
GeSn 合金在硅上的固相外延及其在 MOSFET 器件中的集成
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Ruben R. Lieten;Tatsuro Maeda;Jin Won Seo;Wipakorn Jevasuwan;Hiroyuki Hattori;Noriyuki Uchida;Shu Miura;Masatoshi Tanaka;Claudia Fleischmanna;Andre Vantomme;Brett C. Johnson;Jean-Pierre Locquet
  • 通讯作者:
    Jean-Pierre Locquet
窒素組成制御によるGe向け金属性HfN/絶縁性HfNx/半導体MIS構造の研究
控制氮成分研究金属HfN/绝缘HfNx/Ge半导体MIS结构
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    三浦 脩;田中 正俊;安田 哲二;前田 辰郎
  • 通讯作者:
    前田 辰郎
窒素組成制御による高移動度チャネル材料向け金属HfN/絶縁性HfNx/半導体MIS構造の研究
控制氮成分的高迁移率沟道材料金属HfN/绝缘HfNx/半导体MIS结构研究
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    三浦 脩;田中 正俊;安田 哲二;前田 辰郎
  • 通讯作者:
    前田 辰郎
金属性HfN/絶縁性HfNxによる全窒化膜Geゲートスタックの研究
金属HfN/绝缘HfNx全氮化物Ge栅叠层的研究
窒素組成制御による 金属性HfN/絶縁性HfNx/Ge MIS構造の研究
控制氮成分研究金属HfN/绝缘HfNx/Ge MIS结构
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MAEDA Tatsuro其他文献

SWIR Detection of Front Side Illumination InGaAs PhotoFETs on Si Substrate through Layer Transfer Technology
通过层转移技术对硅衬底上的前侧照明 InGaAs PhotoFET 进行短波红外 (SWIR) 检测
  • DOI:
    10.1380/vss.64.74
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    OISHI Kazuaki;ISHII Hiroyuki;CHANG Wen-Hsin;SHIMIZU Tetsuji;ISHII Hiroto;FUJISHIRO Hiroki;ENDOH Akira;MAEDA Tatsuro
  • 通讯作者:
    MAEDA Tatsuro

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Language Attitudes of "Dialect Correction" generation in the Amami.
奄美“方言矫正”一代的语言态度。
  • 批准号:
    24520455
  • 财政年份:
    2012
  • 资助金额:
    $ 3.49万
  • 项目类别:
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高圧相変態が拓くシリコン―ゲルマニウム合金の結晶多型と新奇物性解明
阐明高压相变开发的硅锗合金的晶体多态性和新的物理性能
  • 批准号:
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ゲルマニウム二次元結晶のヘテロ構造形成と電子物性制御
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  • 批准号:
    23K13674
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开发结型Ge探测器二维结构实现超高灵敏度中远红外传感器
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    23H01223
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 3.49万
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アニオン種の光励起を基軸とした14族元素化合物の新規合成法の開発
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  • 批准号:
    22KJ1145
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
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  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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按需制备杂原子自由基物种
  • 批准号:
    23K13741
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    2023
  • 资助金额:
    $ 3.49万
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    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
Exploring spin coherence engineering in group IV semiconductor quantum structures
探索 IV 族半导体量子结构中的自旋相干工程
  • 批准号:
    23H05455
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 3.49万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (S)
ゲルマニウム二次元結晶のヘテロ構造形成と電子物性制御
二维锗晶体异质结构形成及电子性质控制
  • 批准号:
    22H01524
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 3.49万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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