Development of Helically Chiral Polymers Based on the Condensation of Arylboronic Acids with Diamines

基于芳基硼酸与二胺缩合的螺旋手性聚合物的开发

• 批准号: 24750105
• 负责人: YAMAMOTO Takeshi
• 金额: $ 3万
• 依托单位: Kyoto University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2012
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2012-04-01 至 2015-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-24750105/
• 关键词: 合成化学; らせん; Ｃ－Ｈ活性化; ボリル化; オリゴアレーン; 保護基; 配向基; C-H活性化; オリゴナフタレン; 高分子合成; 高分子構造・物性; らせん不斉

项目成果

Iterative Suzuki-Miyaura Cross-Coupling of B-Masked 3-Iodo-2- naphthylboronic Acids Directed Toward New Helical Architecture

B-掩蔽的 3-Iodo-2-萘基硼酸的迭代 Suzuki-Miyaura 交叉偶联旨在形成新的螺旋结构

• 发表时间: 2013
• 作者: Aoi Ｉｓｈｉｂａｓｈｉ;Takeshi Yamamoto;Michinori Suginome;石橋 葵・山本 武司・杉野目 道紀;石橋 葵・山本 武司・杉野目 道紀;Aoi Ishibashi， Masashi Koyanagi， Nils Eichenauer， Hideki Ihara， Takeshi Yamamoto， Michinori Suginome;Aoi Ishibashi， Takeshi Yamamoto and Michinori Suginome
• 通讯作者: Aoi Ishibashi， Takeshi Yamamoto and Michinori Suginome

The Suginome Research Group

杉目研究小组

Ir-Catalyzed ortho-C－H Borylation of Arylboronic Acids Masked by Removable Directing Group on the Boron Atom

Ir 催化硼原子上可去除导向基团掩蔽芳基硼酸的邻位 C－H 硼化

• 发表时间: 2015
• 作者: Aoi Ｉｓｈｉｂａｓｈｉ;Takeshi Yamamoto;Michinori Suginome
• 通讯作者: Michinori Suginome

ホウ素上を保護した３-ヨード-２-ナフチルボロン酸をカップリングモジュールとする繰り返し鈴木‐宮浦カップリングによるオリゴ（ナフタレン-2，3-ジイル）の合成

使用硼保护的 3-碘-2-萘基硼酸作为偶联模块，通过重复 Suzuki-Miyaura 偶联合成低聚（萘-2,3-二基）

• 发表时间: 2013
• 作者: Aoi Ｉｓｈｉｂａｓｈｉ;Takeshi Yamamoto;Michinori Suginome;石橋 葵・山本 武司・杉野目 道紀;石橋 葵・山本 武司・杉野目 道紀;Aoi Ishibashi， Masashi Koyanagi， Nils Eichenauer， Hideki Ihara， Takeshi Yamamoto， Michinori Suginome;Aoi Ishibashi， Takeshi Yamamoto and Michinori Suginome;石橋 葵・小柳 雅史・EICHENAUER Nils・井原 秀樹・山本 武司・杉野目 道紀
• 通讯作者: 石橋 葵・小柳 雅史・EICHENAUER Nils・井原 秀樹・山本 武司・杉野目 道紀

Boron-Masking Strategies for the Ｓynthesis of Helically Chiral Oligo（naphthalene-2,3-diyl）s

合成螺旋手性寡聚(萘-2,3-二基)的硼掩蔽策略

• 发表时间: 2014
• 作者: Aoi Ｉｓｈｉｂａｓｈｉ;Takeshi Yamamoto;Michinori Suginome
• 通讯作者: Michinori Suginome