The study of electroforming mold for glass thermal imprinting

玻璃热压印电铸模具的研究

• 批准号: 24760112
• 负责人: YASUI Manabu
• 金额: $ 2.83万
• 依托单位: Kanagawa Industrial Technology Center
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
• 财政年份: 2012
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2012-04-01 至 2015-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-24760112/
• 关键词: マイクロ・ナノ加工; 電鋳金型; Ni-Wめっき; 電子線描画; 電鋳; ナノパターン; Ni-W; ガラス; ネガ型レジスト; Ni-W電鋳; 残渣; サブミクロンパターン; エポキシ樹脂

项目成果

Ni-W電鋳金型を用いたマイクロ成型技術の開発

使用Ni-W电铸模具开发微成型技术

• 发表时间: 2013
• 作者: S. Kaneko;T. Ito;M. Yasui;M. Kurouchi;H. Torii;T. Amazawa;A. Fukushima;T. Tokumasu;S. Lee;S. Park;M. Yoshimoto;安井学，金子智，高橋正春，佐野孝史，平林康男，小沢武，前田龍太郎;安井学，金子智，高橋正春，佐野孝史，平林康男，小沢武，前田龍太郎
• 通讯作者: 安井学，金子智，高橋正春，佐野孝史，平林康男，小沢武，前田龍太郎

Expansion of lattice constants of aluminum nitride thin film prepared on sapphire substrate by ECR plasma sputtering method

ECR等离子体溅射法在蓝宝石衬底上制备氮化铝薄膜晶格常数的扩展

• DOI: 10.7567/jjap.53.11ra11
• 发表时间: 2014
• 期刊: Japanese Journal of Applied Physics
• 影响因子: 1.5
• 作者: S Kaneko;H Torii;T Amazawa;T Ito;M Yasui;M Kurouchi;A Fukushima;T Tokumasu;S Lee;S Park;H Takikawa;M Yoshimoto
• 通讯作者: M Yoshimoto

Effects of post exposure bake temperature and exposure time on SU-8 nanopattern obtained by electron beam lithography

• DOI: 10.7567/jjap.53.11rf03
• 发表时间: 2014-11
• 期刊: Japanese Journal of Applied Physics
• 影响因子: 1.5
• 作者: M. Yasui;Elito Kazawa;S. Kaneko;R. Takahashi;M. Kurouchi;T. Ozawa;M. Arai

ガラスインプリント用Ni-W 電鋳金型のパターンの微細化に関する研究

玻璃压印镍钨电铸模具图案细化研究

• 发表时间: 2014
• 作者: M. Yasui;S. Kaneko;M. Takahashi;T. Sano;Y. Hirabayashi;T. Ozawa and R. Maeda;安井学,伊藤寛明,荒井政大,金子智,小沢武,黒内正仁
• 通讯作者: 安井学,伊藤寛明,荒井政大,金子智,小沢武,黒内正仁

Effect of metal ion concentration in Ni-W plating solution on surface roughness of Ni-W film

Ni-W镀液中金属离子浓度对Ni-W镀层表面粗糙度的影响

• DOI: 10.7567/jjap.55.01aa22
• 发表时间: 2016
• 期刊: Japanese Journal of Applied Physics
• 影响因子: 1.5
• 作者: Manabu Yasui;Satoru Kaneko;Masahito Kurouchi;Hiroaki Ito;Takeshi Ozawa and Masahiro Arai
• 通讯作者: Takeshi Ozawa and Masahiro Arai