The study of electroforming mold for glass thermal imprinting
The study of electroforming mold for glass thermal imprinting
批准号:
24760112
负责人:
YASUI Manabu
金额:
$2.83万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2012
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2012-04-01 至 2015-03-31
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Ni-W電鋳金型を用いたマイクロ成型技術の開発
使用Ni-W电铸模具开发微成型技术
DOI:
--
发表时间:
2013
期刊:
影响因子:
--
作者:
[S. Kaneko, T. Ito, M. Yasui, M. Kurouchi, H. Torii, T. Amazawa, A. Fukushima, T. Tokumasu, S. Lee, S. Park, M. Yoshimoto, 安井学,金子智,高橋正春,佐野孝史,平林康男,小沢武,前田龍太郎, 安井学,金子智,高橋正春,佐野孝史,平林康男,小沢武,前田龍太郎]
通讯作者:
安井学,金子智,高橋正春,佐野孝史,平林康男,小沢武,前田龍太郎
Expansion of lattice constants of aluminum nitride thin film prepared on sapphire substrate by ECR plasma sputtering method
ECR等离子体溅射法在蓝宝石衬底上制备氮化铝薄膜晶格常数的扩展
DOI:
10.7567/jjap.53.11ra11
发表时间:
2014
期刊:
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子:
1.5
作者:
[S Kaneko, H Torii, T Amazawa, T Ito, M Yasui, M Kurouchi, A Fukushima, T Tokumasu, S Lee, S Park, H Takikawa, M Yoshimoto]
通讯作者:
M Yoshimoto
DOI:
10.7567/jjap.53.11rf03
发表时间:
2014-11
期刊:
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子:
1.5
作者:
[M. Yasui;Elito Kazawa;S. Kaneko;R. Takahashi;M. Kurouchi;T. Ozawa;M. Arai]
通讯作者:
M. Yasui;Elito Kazawa;S. Kaneko;R. Takahashi;M. Kurouchi;T. Ozawa;M. Arai
ガラスインプリント用Ni-W 電鋳金型のパターンの微細化に関する研究
玻璃压印镍钨电铸模具图案细化研究
DOI:
--
发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
--
作者:
[M. Yasui, S. Kaneko, M. Takahashi, T. Sano, Y. Hirabayashi, T. Ozawa and R. Maeda, 安井学,伊藤寛明,荒井政大,金子智,小沢武,黒内正仁]
通讯作者:
安井学,伊藤寛明,荒井政大,金子智,小沢武,黒内正仁
Effect of metal ion concentration in Ni-W plating solution on surface roughness of Ni-W film
Ni-W镀液中金属离子浓度对Ni-W镀层表面粗糙度的影响
DOI:
10.7567/jjap.55.01aa22
发表时间:
2016
期刊:
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子:
1.5
作者:
[Manabu Yasui, Satoru Kaneko, Masahito Kurouchi, Hiroaki Ito, Takeshi Ozawa and Masahiro Arai]
通讯作者:
Takeshi Ozawa and Masahiro Arai
共 12 条
Development of a single DNA adduct-caused gene mutation assay as a model of low-dose exposure
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批准号:22710068
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额:$2.5万
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财政年份:2010
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负责人:YASUI Manabu
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依托单位:
Mutation mechanism of a single DNA adduct embedded in human genomeof TK6 cells
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批准号:19710059
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额:$2.38万
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财政年份:2007
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负责人:YASUI Manabu
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依托单位: