Low temperature synthesis of a Mg2Si thin film with help of plasma

等离子体辅助低温合成 Mg2Si 薄膜

基本信息

  • 批准号:
    25400530
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 3.24万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    2013
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2013-04-01 至 2016-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
サファイア基板上Mg/Si共堆積膜のポストアニールによるMg2Si膜固相合成
蓝宝石衬底上Mg/Si共沉积膜后退火固相合成Mg2Si薄膜
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    高木雄太;張月;國武和広;佐藤直幸;池畑隆;鵜殿治彦
  • 通讯作者:
    鵜殿治彦
サファイア基板へのマグネシウムシリサイド薄膜固相合成
蓝宝石衬底上硅化镁薄膜的固相合成
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    武和広;高木雄太;張 月;西城 要;石村洋彦;佐藤直幸;池畑 隆;鵜殿治彦
  • 通讯作者:
    鵜殿治彦
熱電半導体Mg2Si膜の固相合成と微細構造解析
热电半导体Mg2Si薄膜的固相合成及微观结构分析
  • DOI:
  • 发表时间:
    2013
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    山本拓哉;高木雄太;張月;國武和広;佐藤直幸;鵜殿治彦;池畑隆
  • 通讯作者:
    池畑隆
サファイア基板へのマグネシウムシリサイド薄膜固 相合成 - 第二報
蓝宝石衬底上硅化镁薄膜的固相合成-第二份报告
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    西城要,國武和広,笹島良太,河原航;高木雄太,佐藤直幸,池畑隆,鵜殿治彦
  • 通讯作者:
    高木雄太,佐藤直幸,池畑隆,鵜殿治彦
減圧雰囲気におけるイオナイザ除電器の挙動
离子发生器静电消除器在减压气氛中的行为
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    池畑隆;根本大輔;賀婉テイ;松尾武;佐藤直幸;岡野一雄
  • 通讯作者:
    岡野一雄
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