Low temperature synthesis of a Mg2Si thin film with help of plasma
等离子体辅助低温合成 Mg2Si 薄膜
基本信息
- 批准号:25400530
- 负责人:
- 金额:$ 3.24万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份:2013
- 资助国家:日本
- 起止时间:2013-04-01 至 2016-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
サファイア基板上Mg/Si共堆積膜のポストアニールによるMg2Si膜固相合成
蓝宝石衬底上Mg/Si共沉积膜后退火固相合成Mg2Si薄膜
- DOI:
- 发表时间:2014
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:高木雄太;張月;國武和広;佐藤直幸;池畑隆;鵜殿治彦
- 通讯作者:鵜殿治彦
サファイア基板へのマグネシウムシリサイド薄膜固相合成
蓝宝石衬底上硅化镁薄膜的固相合成
- DOI:
- 发表时间:2015
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:武和広;高木雄太;張 月;西城 要;石村洋彦;佐藤直幸;池畑 隆;鵜殿治彦
- 通讯作者:鵜殿治彦
熱電半導体Mg2Si膜の固相合成と微細構造解析
热电半导体Mg2Si薄膜的固相合成及微观结构分析
- DOI:
- 发表时间:2013
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:山本拓哉;高木雄太;張月;國武和広;佐藤直幸;鵜殿治彦;池畑隆
- 通讯作者:池畑隆
サファイア基板へのマグネシウムシリサイド薄膜固 相合成 - 第二報
蓝宝石衬底上硅化镁薄膜的固相合成-第二份报告
- DOI:
- 发表时间:2015
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:西城要,國武和広,笹島良太,河原航;高木雄太,佐藤直幸,池畑隆,鵜殿治彦
- 通讯作者:高木雄太,佐藤直幸,池畑隆,鵜殿治彦
減圧雰囲気におけるイオナイザ除電器の挙動
离子发生器静电消除器在减压气氛中的行为
- DOI:
- 发表时间:2015
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:池畑隆;根本大輔;賀婉テイ;松尾武;佐藤直幸;岡野一雄
- 通讯作者:岡野一雄
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