Properties and functionalization of nonstoichiometric silicon-titanium nitrides due to laser-beam assisted ion implantation
Properties and functionalization of nonstoichiometric silicon-titanium nitrides due to laser-beam assisted ion implantation
激光束辅助离子注入非化学计量氮化硅钛的特性和功能化
批准号：
25420687
负责人：
KASUKABE YOSHITAKA
金额：
$3.33万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2013
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2013-04-01 至 2016-03-31
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Evolution of Transformation Processes due to the Correlation of Implanted N-ions with Ti Thin Films
由于注入 N 离子与 Ti 薄膜的相关性而导致转化过程的演变
由于注入 N 离子与 Ti 薄膜的相关性而导致转化过程的演变
DOI：
--
发表时间：
2015
期刊：
JAEA-Review
影响因子：
--
作者：
[Y. Kasukabe, H. Shimoda, S. Yamamoto and M. Yoshikawa]
通讯作者：
S. Yamamoto and M. Yoshikawa
Characterization of (111)-oriented Ti1-xAlxN Thin Films on Monocrystalline AlN
单晶 AlN 上 (111) 取向 Ti1-xAlxN 薄膜的表征
单晶 AlN 上 (111) 取向 Ti1-xAlxN 薄膜的表征
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
JAEA-Review
影响因子：
--
作者：
[Y. Kasukabe, H. Shimoda, S. Yamamoto and M. Yoshikawa]
通讯作者：
S. Yamamoto and M. Yoshikawa
Epitaxial transformation of hcp–fcc Ti sublattices during nitriding processes of evaporated-Ti thin films due to nitrogen-implantation
氮注入导致蒸发钛薄膜氮化过程中 hcp-fcc 钛亚晶格的外延转变
氮注入导致蒸发钛薄膜氮化过程中 hcp-fcc 钛亚晶格的外延转变
DOI：
10.1016/j.jallcom.2011.10.113
发表时间：
2013
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Yu Chen, Xiaoyi Feng, Y. Kasukabe, S. Yamamoto, M. Yoshikawa, Y. Fujino]
通讯作者：
Y. Fujino
Atomistic Transformation Processes Induced by the Interaction of Implanted N-Ions with Ti Thin Films
注入 N 离子与 Ti 薄膜相互作用引起的原子转变过程
注入 N 离子与 Ti 薄膜相互作用引起的原子转变过程
DOI：
--
发表时间：
2014
期刊：
JAEA-Review
影响因子：
--
作者：
[Y. Kasukabe, H. Shimoda, S. Yamamoto and M. Yoshikawa]
通讯作者：
S. Yamamoto and M. Yoshikawa
DOI：
--
发表时间：
2013
期刊：
JAEA-Review
影响因子：
--
作者：
[Y. Kasukabe, Y. Chen, S. Yamamoto and M. Yoshikawa]
通讯作者：
S. Yamamoto and M. Yoshikawa
共 6 条
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