Abscheidung und Implantation von Kohlenstoff aus Kohlenwasserstoffplasmen mit Plasma Immersions Ionenimplantation

使用等离子体浸没离子注入从碳氢化合物等离子体沉积和注入碳

• 批准号: 5428763
• 负责人: Professor Dr. Wolfgang Ensinger
• 金额: --
• 依托单位: Fachgebiet Materialanalytik
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Research Grants
• 财政年份: 2004
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 2003-12-31 至 2006-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/5428763?language=en
• 关键词: Abscheidung; und; Implantation; von; Kohlenstoff

Plasma-Immersions Ionenimplantation (PIII) ist eine auf dem Weg zur Anwendung befindliche Methode zur Modifikation von Materialien durch Bestrahlung mit hochenergetischen Ionen. Sie stellt eine Alternative zur industriell etablierten konventionellen Ionenimplantation dar. PIII ist aber, da sie im Gegensatz zur Ionenimplantation keine aufwendige Ionenstrahl- und/oder Probenmanipulation benötigt, prozesstechnisch und vom Kostenaufwand her ein weitaus einfacherer Prozess als Ionenimplantation. Für eine Anwendung fehlt es allerdings stellenweise stark am grundlegenden Verständnis. PIII wurde und wird meist nur mit Elementen betrieben, welche unter Normalbedingungen gasförmig sind, hauptsächlich Stickstoff und Sauerstoff, womit man nitrieren und oxidieren möchte. Wie bei der Ionenimplantation möchte man mit PIII aber auch Kohlenstoff implantieren können. Während dies bei der Ionenimplantation aber relativ einfach ist, hat man es bei der PIII mit einem komplexen noch unverstandenen Prozess zu tun. Ziel des vorliegenden Projektes ist es, PIII mit Kohlenwasserstoffen zu untersuchen. Dies soll geschehen an Modellsystemen mit technischer Relevanz, nämlich Silizium- und Borkabid sowie Titan- und Tantalkarbid. Die Karbidschichten werden ausführlich charakterisiert und ihre Eigenschaften in Abhängigkeit von den Prozessparametern studiert.

等离子体浸没离子植入(PIII)是一种新型的材料改性方法。Sie Stellt Eine是一种可供选择的工业设备，用于离子注入。这是一种很好的离子植入方法，它可以帮助我们更好地处理这些问题，并为我们提供更好的解决方案。Füreine Anwendung‘s过敏症严重影响了VerundLegenden Verständnis。这是一件很重要的事情，因为这是一件很重要的事情，因为这是一件很重要的事情，因为这是一件很重要的事情。在科伦斯托夫的帮助下，我们将在未来的一段时间内完成这项工作。Während死于植入术，帽子人死于一种不同寻常的进步。这是一项重大的工程，也是一项重大的工程。MIT技术人员Rlevanz，nämlich Silizium-and Borkabid Sowie Titan-und Tantalkarid。在这项研究的基础上，我们发现了许多新的特征和特征。