窒化物半導体多孔質ナノ構造の電気化学的形成と機能化による可視光応答光触媒への応用

氮化物半导体多孔纳米结构的电化学形成和功能化在可见光响应光催化剂中的应用

基本信息

  • 批准号:
    14J01371
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.05万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 财政年份:
    2014
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2014-04-25 至 2017-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

平成28年度は、引き続きGaN多孔質ナノ構造の形状制御性の向上に向けた検討を行うとともに、GaN多孔質ナノ構造の構造特性と光電気化学特性の相関を系統的に調べ最適構造の模索を行った。主たる成果を以下に示す。1. GaN多孔質ナノ構造の形状制御性の向上を目的として、電気化学エッチング条件の最適化を行った。直線的な孔が形成され深い孔の形成に有利な条件である電圧10 Vでは配列密度が上がらず、15 Vまで電圧を上げると配列密度は大きくなるものの直線的な孔の形成は困難であった。そこで、最初に15 Vで高密度のピットを形成し、その後10 Vでエッチングを進行させたところ、配列密度及び孔深さを共に高い値を持つ直線性多孔質ナノ構造の形成に成功した。この結果から、電気化学エッチングは他のプロセスでは実現できないほどの高密度、高アスペクト比のナノ構造形成が可能であることを見出した。2. 昨年度確立した二段階異方性エッチングプロセスにより作製したGaN多孔質ナノ構造について光電気化学特性を調べた。孔径が30 nm以下では孔径の増加と共に外部量子効率が増加し、孔径30 nmで91 %と極めて高い値が達成された。しかし、孔径が30 nm以上になると外部量子効率が80 %程度まで減少した。これは孔径の増加と共に孔壁幅が減少し、空乏層の電界が減少することが原因と考えられた。そのため、高い変換効率の達成には孔壁幅を空乏層幅と一致するよう設計する必要があり、数ナノメートルオーダーで制御できる本手法の優位性を明らかにした。3. 疑似太陽光による水分解とガスクロマトグラフィによる生成ガスの定量分析を行うことで光触媒特性を評価した。多孔質ナノ構造電極では無加工電極に比べて光電流値が増加し、さらに光電流量に対する水素ガス生成量の割合(ファラデー効率)が増加することがわかった。
28 year は pp.47-53, lead き 続 き GaN porous ナ の ノ structure shape system royal sex の に upward to け た 検 line for を う と と も に, GaN porous ナ ノ structure の と photoelectric 気 chemical properties の phase masato を system the optimal structure の に adjustable べ die line cable を っ た. The main たる result を is shown below に す. 1. The shape control of the GaN porous ナノ structure <e:1> is aimed at を goals, と <s:1> て, て, and the optimization of electrical and chemical エッチ グ グ conditions を is carried out った. Linear が な hole forming さ れ deep hole い の form に な advantages で あ る electric 圧 10 V で は column density が deserve が ら ず, 15 V ま で electric 圧 を on げ る と with large column density は き く な る も の の linear の な hole forming は difficult で あ っ た. そ こ で, initially に 15 V で high-density の ピ ッ ト を し, そ の after 10 V で エ ッ チ ン グ を for さ せ た と こ ろ, column density and び hole deep さ を higher common に い numerical を hold つ linearity porous ナ の ノ structure form に successful し た. こ の results か ら, electric chemical エ 気 ッ チ ン グ は he の プ ロ セ ス で は be presently で き な い ほ ど の high density, high ア ス ペ ク ト than の ナ ノ が structure formation may で あ る こ と を shows し た. 2. Yesterday the annual establish し た Duan Jie two different part エ ッ チ ン グ プ ロ セ ス に よ り cropping し た GaN porous ナ ノ tectonic に つ い て photoelectric 気 chemistry を adjustable べ た. Aperture が below 30 nm で は aperture の raised と requirement by total に が raised し requirement by external quantum working rate, aperture 30 nm で 91% と め extremely high て い numerical が reached さ れ た. The external quantum efficiency が is reduced by 80% to a certain extent, and the pore size is が30 nm or more になると. こ れ は aperture の raised と requirement by total に hole wall painting が reduce し, empty layer の world が す る こ と が reason と exam え ら れ た. そ の た め, high い の - in sharper rate reached に は hole wall painting を depletion layer of consistent と す る よ う design す る necessary が あ り, several ナ ノ メ ー ト ル オ ー ダ ー で suppression で き る this gimmick の primacy を Ming ら か に し た. 3. The suspected sunlight に よ る water decomposition と ガ ス ク ロ マ ト グ ラ フ ィ に よ る generated ガ ス の quantitative analysis line を う こ と で photocatalytic properties を review 価 し た. Porous ナ ノ structure electrode で は no machining electrode に than べ て photocurrent numerical が raised し, さ ら に photoelectric flow に す seaborne る water element ガ ス generation の cut close (フ ァ ラ デ ー sharper rate) が raised plus す る こ と が わ か っ た.

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
AlGaN/GaNヘテロ構造の光電気化学特性と低損傷加工技術への応用
AlGaN/GaN异质结构的光电化学性能及其在低损伤加工技术中的应用
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    熊崎 祐介;植村 圭佑;佐藤 威友
  • 通讯作者:
    佐藤 威友
Correlation between Structural and Photoelectrochemical Properties of GaN Porous Nanostructures Formed by Photo-Assisted Electrochemical Etching
  • DOI:
    10.1149/2.1101410jes
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    3.9
  • 作者:
    Y. Kumazaki;A. Watanabe;Zenji Yatabe;Taketomo Sato
  • 通讯作者:
    Y. Kumazaki;A. Watanabe;Zenji Yatabe;Taketomo Sato
Precise Structural Tuning of Porous GaN Using Two-Step Anisotropic Etching for Optical and Photo-Electric Applications
使用两步各向异性蚀刻对光学和光电应用中的多孔 GaN 进行精确结构调整
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Y. Kumazaki;S. Matsumoto;T. Sato
  • 通讯作者:
    T. Sato
Correlation between Structural and Optical Properties of GaN Porous Structures Formed by Photo-assisted Electrochemical Etching
光辅助电化学刻蚀形成的 GaN 多孔结构的结构与光学性质之间的相关性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    熊崎 祐介;近江 沙也夏;谷田部 然治;佐藤 威友;Yusuke Kumazaki
  • 通讯作者:
    Yusuke Kumazaki
Formation of GaN porous structures with improved structural controllability by photoassisted electrochemical etching
通过光辅助电化学蚀刻形成具有改进结构可控性的GaN多孔结构
  • DOI:
    10.7567/jjap.55.04ej12
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.5
  • 作者:
    Y. Kumazaki;Z. Yatabe;and T. Sato
  • 通讯作者:
    and T. Sato
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光電気化学反応を利用したn-GaN表面ダメージ層の除去
利用光电化学反应去除n-GaN表面损伤层
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    松本 悟;枝元 将彰;熊崎 祐介;佐藤 威友
  • 通讯作者:
    佐藤 威友
電気化学堆積法による Cu2O/InP ヘテロ界面の形成
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  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    松本 悟;熊崎 祐介;佐藤 威友;喜田 弘文,伊藤 圭亮,熊崎 祐介,佐藤 威友;近江 沙也夏,熊崎 祐介,佐藤 威友
  • 通讯作者:
    近江 沙也夏,熊崎 祐介,佐藤 威友
電気化学エッチングによるGaN多孔質構造の形成
通过电化学蚀刻形成GaN多孔结构
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    渡部 晃生;熊崎 祐介;谷田部 然治;佐藤 威友
  • 通讯作者:
    佐藤 威友
Effects of humidity on gas heating in atmospheric-pressure streamer discharge
湿度对常压流光放电气体加热的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    熊崎 祐介;渡部 晃生;谷田部 然治;佐藤 威友;Atsushi Komuro and Ryo Ono
  • 通讯作者:
    Atsushi Komuro and Ryo Ono
電気化学堆積法によるCu2O/GaNヘテロ構造の形成と特性評価
电化学沉积法Cu2O/GaN异质结构的形成及表征
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    熊崎 祐介;近江 沙也夏;谷田部 然治;佐藤 威友
  • 通讯作者:
    佐藤 威友

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    $ 2.05万
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