ナノギャップシステムを用いた強磁性単電子トランジスタの開発

利用纳米间隙系统开发铁磁单电子晶体管

• 批准号: 14J08599
• 负责人: 須田 隆太郎
• 金额: $ 1.41万
• 依托单位: Tokyo University of Agriculture and Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for JSPS Fellows
• 财政年份: 2014
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2014-04-25 至 2016-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-14J08599/
• 关键词: 単電子トランジスタ; ナノギャップ; FMSET; エレクトロマイグレーション; 量子ポイントコンタクト

前年度はNi系ナノギャップを利用し強磁性単電子トランジスタの室温動作を実証した。今年度は素子作製の高スループット化を視野に入れ、ナノシリコン弾道電子源を用いたプリンティング薄膜堆積法の提案と実験的･理論的検証を行った。極微量のCuCl2水溶液を塗布した基板を低気圧不活性ガス中で電子源と近接対向させ弾道電子を直接照射することにより、還元効果に基づくCu薄膜堆積現象を実証した。本手法はCuだけでなく強磁性金属にも適用できると考えられる。これらにより、常温･クリーン･低ダメージの新規固体薄膜堆積法としての有用性が明らかにされ、強磁性単電子デバイスの作製につながる微細プロセス技術を固めることができた。

In the previous year, the Ni department used high-intensity magnetic electrons to conduct room temperature testing. This year, Suzi is responsible for the introduction of high-level chemical engineering, and the use of high-performance thin-film reactors in the theory of active film stacking. Trace amount of CuCl2 aqueous solution, cloth substrate, low temperature, inactivity, low temperature, low temperature, low This technique is used to test the magnetic properties of the Cu metal. The conventional solid film stacking method is used to detect the usefulness of the new solid film reactor at room temperature and room temperature. the use of high-power magnetic electrons is used to improve the performance of the system, and the use of strong magnetic electrons.

项目成果

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ナノシリコン弾道電子源を用いたCu薄膜のプリンティング堆積

使用纳米硅弹道电子源印刷沉积铜薄膜

• 发表时间: 2015
• 作者: 須田隆太郎;八木麻実子;小島明;R. Mentek;白樫淳一;越田信義
• 通讯作者: 越田信義

ナノシリコン弾道電子源を用いたIV族半導体薄膜の堆積

使用纳米硅弹道电子源沉积 IV 族半导体薄膜

• 发表时间: 2014
• 作者: 八木麻実子;須田隆太郎;小島明;R. Mentek;白樫淳一;越田信義
• 通讯作者: 越田信義

固体薄膜のプリンティング堆積方法

固体薄膜的印刷沉积方法

• 发表时间: 2015

Reductive Deposition of Thin Cu Films Using Ballistic Hot Electrons as a Printing Beam

使用弹道热电子作为印刷光束还原沉积铜薄膜

• DOI: 10.1149/2.0921606jes
• 发表时间: 2016
• 期刊: J. Electrochem. Soc.
• 作者: R. Suda;M. Yagi;A. kojima;N. Mori;J. Shirakashi;and N. Koshida
• 通讯作者: and N. Koshida