Development of process performance for diamond wafers and cutting / grinding tools by ultraviolet irradiation polishing
通过紫外线照射抛光开发金刚石晶片和切割/磨削工具的工艺性能
基本信息
- 批准号:26289020
- 负责人:
- 金额:$ 10.73万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份:2014
- 资助国家:日本
- 起止时间:2014-04-01 至 2017-03-31
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
项目成果
期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
紫外線照射研磨によるダイヤモンドホイール研削性能の高度化
紫外线照射抛光提高金刚石砂轮磨削性能
- DOI:
- 发表时间:2014
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Ryo Sakurada;Fangtao Ruan;Bao Limin;中井善一,久保司郎;峠 睦,坂本武司,久保田章亀,川下智幸,峠 直樹
- 通讯作者:峠 睦,坂本武司,久保田章亀,川下智幸,峠 直樹
紫外線照射研磨によるPCD製切削工具の高度化と切削性能
紫外辐照抛光PCD刀具的精密度和切削性能
- DOI:
- 发表时间:2017
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Hiroyuki Degawa;Noriaki Urano;Shigeki Matsuo;和泉康夫,後藤健太,坂本武司,久保田章亀,峠 睦
- 通讯作者:和泉康夫,後藤健太,坂本武司,久保田章亀,峠 睦
Development of Ductile mode grooving with PCD(Poly-Crystalline Diamond) Blade
PCD(聚晶金刚石)刀片延性模式切槽的开发
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Y. Izumi;M. Touge
- 通讯作者:M. Touge
SiC半導体基板用PCDダイシングブレードの開発
SiC半导体基板用PCD切割刀片的开发
- DOI:
- 发表时间:2016
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Peng Zhu;Limin Bao;和泉康夫,藤田 隆,南 久,渡邉純二,峠 睦
- 通讯作者:和泉康夫,藤田 隆,南 久,渡邉純二,峠 睦
Two-step polishing technique for single crystal diamond (100) substrate utilizing a chemical reaction with iron plate
- DOI:10.1016/j.diamond.2015.10.026
- 发表时间:2015-11
- 期刊:
- 影响因子:4.1
- 作者:A. Kubota;S. Nagae;S. Motoyama;M. Touge
- 通讯作者:A. Kubota;S. Nagae;S. Motoyama;M. Touge
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者:
{{ item.author }}
数据更新时间:{{ patent.updateTime }}
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{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI:
{{ item.doi }} - 发表时间:
{{ item.publish_year }} - 期刊:
- 影响因子:{{ item.factor }}
- 作者:
{{ item.authors }} - 通讯作者:
{{ item.author }}
{{ truncateString('TOUGE Mutsumi', 18)}}的其他基金
Development of UV-Assisted Polishing Technology to Realize Diamond Wafer for Power Electric Devices
开发紫外辅助抛光技术实现电力电子器件金刚石晶片
- 批准号:
23360070 - 财政年份:2011
- 资助金额:
$ 10.73万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Development of precision processing technology for ultra-fine heat radiation fin with high performance, and its application
高性能超细散热片精密加工技术开发及应用
- 批准号:
19560119 - 财政年份:2007
- 资助金额:
$ 10.73万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Development of Ultra Thinning Technology of Multifunctional Device Substrates by Abrasive Processing
多功能器件基板磨削加工超薄化技术的发展
- 批准号:
14350074 - 财政年份:2002
- 资助金额:
$ 10.73万 - 项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)














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