Development of process performance for diamond wafers and cutting / grinding tools by ultraviolet irradiation polishing

通过紫外线照射抛光开发金刚石晶片和切割/磨削工具的工艺性能

基本信息

  • 批准号:
    26289020
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 10.73万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2014
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2014-04-01 至 2017-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
紫外線照射研磨によるダイヤモンドホイール研削性能の高度化
紫外线照射抛光提高金刚石砂轮磨削性能
  • DOI:
  • 发表时间:
    2014
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Ryo Sakurada;Fangtao Ruan;Bao Limin;中井善一,久保司郎;峠  睦,坂本武司,久保田章亀,川下智幸,峠 直樹
  • 通讯作者:
    峠  睦,坂本武司,久保田章亀,川下智幸,峠 直樹
紫外線照射研磨によるPCD製切削工具の高度化と切削性能
紫外辐照抛光PCD刀具的精密度和切削性能
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Hiroyuki Degawa;Noriaki Urano;Shigeki Matsuo;和泉康夫,後藤健太,坂本武司,久保田章亀,峠  睦
  • 通讯作者:
    和泉康夫,後藤健太,坂本武司,久保田章亀,峠  睦
Development of Ductile mode grooving with PCD(Poly-Crystalline Diamond) Blade
PCD(聚晶金刚石)刀片延性模式切槽的开发
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Y. Izumi;M. Touge
  • 通讯作者:
    M. Touge
SiC半導体基板用PCDダイシングブレードの開発
SiC半导体基板用PCD切割刀片的开发
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Peng Zhu;Limin Bao;和泉康夫,藤田 隆,南 久,渡邉純二,峠  睦
  • 通讯作者:
    和泉康夫,藤田 隆,南 久,渡邉純二,峠  睦
Two-step polishing technique for single crystal diamond (100) substrate utilizing a chemical reaction with iron plate
  • DOI:
    10.1016/j.diamond.2015.10.026
  • 发表时间:
    2015-11
  • 期刊:
  • 影响因子:
    4.1
  • 作者:
    A. Kubota;S. Nagae;S. Motoyama;M. Touge
  • 通讯作者:
    A. Kubota;S. Nagae;S. Motoyama;M. Touge
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

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{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('TOUGE Mutsumi', 18)}}的其他基金

Development of UV-Assisted Polishing Technology to Realize Diamond Wafer for Power Electric Devices
开发紫外辅助抛光技术实现电力电子器件金刚石晶片
  • 批准号:
    23360070
  • 财政年份:
    2011
  • 资助金额:
    $ 10.73万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Development of precision processing technology for ultra-fine heat radiation fin with high performance, and its application
高性能超细散热片精密加工技术开发及应用
  • 批准号:
    19560119
  • 财政年份:
    2007
  • 资助金额:
    $ 10.73万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Development of Ultra Thinning Technology of Multifunctional Device Substrates by Abrasive Processing
多功能器件基板磨削加工超薄化技术的发展
  • 批准号:
    14350074
  • 财政年份:
    2002
  • 资助金额:
    $ 10.73万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

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