Green & Sustainable Development of Electroless Displacement Deposition of Noble Metal Nanoparticles on Silicon

绿色的

基本信息

  • 批准号:
    26289276
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 10.48万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2014
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2014-04-01 至 2018-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Optical Property of Porous Silicon Produced By Metal-Assisted Etching
金属辅助刻蚀多孔硅的光学性能
  • DOI:
    10.1149/06902.0185ecst
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Kano Yamakawa;Susumu Sakamoto;Naoki Fukumuro;and Shinji Yae
  • 通讯作者:
    and Shinji Yae
Influence of Adsorption of Hydrogen on Its Incorporation during Electrodeposition of Platinum
铂电沉积过程中氢吸附对其掺入的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Shinji Yae;Ayano Yokoyama;Naoki Fukumuro
  • 通讯作者:
    Naoki Fukumuro
金ナノ粒子を触媒としてシリコン上に直接形成した無電解ニッケルめっきの界面微細構造
使用金纳米颗粒作为催化剂直接在硅上形成化学镀镍的界面微观结构
  • DOI:
  • 发表时间:
    2017
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    高坂 祐一;山田 直輝 阪本 進 福室 直樹 八重 真治
  • 通讯作者:
    山田 直輝 阪本 進 福室 直樹 八重 真治
無電解パラジウムめっき膜中の水素の存在状態
化学镀钯膜中氢的存在状态
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    福室直樹;小田幸典;横山綾乃;角川 舞;森 優輔;松本 歩;八重真治
  • 通讯作者:
    八重真治
シリコン粉末への無電解置換析出を利用した塩基性溶液からの金回収― pH依存性とリーチング液からの回収 ―
使用硅粉上的化学置换沉淀从碱性溶液中回收金 - pH 依赖性和从浸出溶液中回收 -
  • DOI:
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    福田健二;有田翔太郎;津田多公也;松本 歩;八重真治
  • 通讯作者:
    八重真治
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

YAE Shinji其他文献

Sensitive Quantitative Analysis of Strontium in Microdroplet by Surface-enhanced Laser-induced Breakdown Spectroscopy Using Porous Silicon
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  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.6
  • 作者:
    SHIMAZU Yusuke;MATSUMOTO Ayumu;NAKANO Haruka;YAE Shinji
  • 通讯作者:
    YAE Shinji

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{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
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    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

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    $ 10.48万
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    $ 10.48万
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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    2005
  • 资助金额:
    $ 10.48万
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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    $ 10.48万
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)

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    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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    $ 10.48万
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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    2024
  • 资助金额:
    $ 10.48万
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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    2024
  • 资助金额:
    $ 10.48万
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    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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    24KJ1393
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 10.48万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
{{ showInfoDetail.title }}

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