刷新
{{item.name}}会员
Construction of radical surface reaction mechanisms by using a newly-developed plasma molecular beam apparatus and MEMS wall surfaces
使用新开发的等离子体分子束装置和MEMS壁面构建自由基表面反应机制
基本信息
- 批准号：15H05508
- 负责人：
- 金额：$ 15.14万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
- 财政年份：2015
- 资助国家：日本
- 起止时间：2015-04-01 至 2018-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
大気圧プラズマジェットを活用したラジカルの表面反応性の評価
使用大气压等离子体射流评估自由基的表面反应性
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：春藤淳臣;堀耕一郎;Lee;Kyungeun、Kim;Sang Ouk;田中敬二;齋木悠，赤尾拓磨，由永あい
- 通讯作者：齋木悠，赤尾拓磨，由永あい
大気圧非平衡プラズマジェットを活用した壁面の化学的消炎効果の評価
大气压非平衡等离子射流对壁的化学淬火效果评价
- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Yasuo Nakayama;Yuta Mizuno;Soichiro Yamanaka;Tomoya Sato;Ryohei Tsuruta;Yuki Uragami;Masayuki Yamamoto;Keiichirou Yonezawa;Kei Hayakawa;Ludmila Cojocaru;Satoshi Kera;Nobuo Ueno;Satoshi Uchida;Hisao Ishii;Kazuhiko Mase;赤尾拓磨，由永あい，齋木悠，石野洋二郎
- 通讯作者：赤尾拓磨，由永あい，齋木悠，石野洋二郎
矩形波変調プラズマ分子線散乱法による水素吸着過程の評価
方波调制等离子体分子束散射法评价氢吸附过程
- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：春藤淳臣;堀 耕一郎;David P. Penaloza;Lee Kyungeun;Kim Sang Ouk;田中敬二;齋木悠，杵淵郁也，范勇，鈴木雄二
- 通讯作者：齋木悠，杵淵郁也，范勇，鈴木雄二
プラズマ分子線散乱法による水素ラジカル吸着の計測
等离子体分子束散射法测定氢自由基吸附
- DOI：
- 发表时间：2016
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Set Naing;D. Shimokuri;齋木悠，范勇，鈴木雄二
- 通讯作者：齋木悠，范勇，鈴木雄二
Radical quenching of metal wall surface in a methane-air premixed flame
- DOI：10.1016/j.combustflame.2015.07.043
- 发表时间：2015-10
- 期刊：
- 影响因子：4.4
- 作者：Y. Saiki;Yong Fan;Yuji Suzuki
- 通讯作者：Y. Saiki;Yong Fan;Yuji Suzuki
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI：
{{ item.doi }} - 发表时间：
{{ item.publish_year }} - 期刊：
- 影响因子：{{ item.factor }}
- 作者：
{{ item.authors }} - 通讯作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ journalArticles.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ monograph.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ sciAawards.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ conferencePapers.updateTime }}
{{ item.title }}
- 作者：
{{ item.author }}
数据更新时间：{{ patent.updateTime }}
Saiki Yu其他文献
Escaping Behavior of Sperms on the Biomimetic Oviductal Surface.
精子在仿生输卵管表面的逃逸行为。
- DOI：
10.1021/acs.analchem.2c04338 - 发表时间：
2023 - 期刊：
- 影响因子：7.4
- 作者：
Saiki Yu;Yi Wu;Hao Luo;Yanan Liu;Yu;Ya;W. Liu;Jianan Tang;Huijuan Shi;Hai Gao;G. Jing;Yan - 通讯作者：
Yan
Saiki Yu的其他文献
{{
item.title }}
{{ item.translation_title }}
- DOI：
{{ item.doi }} - 发表时间：
{{ item.publish_year }} - 期刊：
- 影响因子：{{ item.factor }}
- 作者：
{{ item.authors }} - 通讯作者：
{{ item.author }}
{{ truncateString('Saiki Yu', 18)}}的其他基金
Elucidation and modeling of wall chemical effect with plasma techniques and combustion diagnostics
利用等离子体技术和燃烧诊断对壁化学效应进行阐明和建模
- 批准号：
19H02075 - 财政年份：2019
- 资助金额：
$ 15.14万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
相似海外基金
吸着・会合・脱離素過程分析に基づくラジカル表面反応現象の解明とモデル構築
基于吸附、缔合和解吸基本过程分析的自由基表面反应现象的阐明和模型构建
- 批准号：
23K22685 - 财政年份：2024
- 资助金额：
$ 15.14万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
アンモニア熱・プラズマ支援分解のためのab initio表面反応モデルの構築
氨热和等离子体辅助分解的从头算表面反应模型的构建
- 批准号：
24KJ0711 - 财政年份：2024
- 资助金额：
$ 15.14万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
超音速分子線照射による遷移金属材料に対する原子層エッチング表面反応機構の解明
超声分子束辐照阐明过渡金属材料原子层刻蚀表面反应机理
- 批准号：
24K08246 - 财政年份：2024
- 资助金额：
$ 15.14万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
金属ナノ粒子が担持された半導体光触媒の表面反応場を活用するα-第三級アミン合成
利用金属纳米颗粒负载的半导体光催化剂的表面反应场合成α-叔胺
- 批准号：
24K17676 - 财政年份：2024
- 资助金额：
$ 15.14万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
ゼータ電位に基づく粒子表面反応計測
基于zeta电位的颗粒表面反应测量
- 批准号：
23K13771 - 财政年份：2023
- 资助金额：
$ 15.14万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
ジケトン分子吸着過程およびガスクラスターイオンビーム照射による表面反応過程の解明
通过气体团簇离子束照射阐明二酮分子的吸附过程和表面反应过程
- 批准号：
23K13236 - 财政年份：2023
- 资助金额：
$ 15.14万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
ハイエントロピー合金を駆使した表面反応場の精密設計と革新的触媒の開発
表面反应场的精确设计和高熵合金创新催化剂的开发
- 批准号：
22KJ0077 - 财政年份：2023
- 资助金额：
$ 15.14万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
多元素合金を駆使した表面反応場の精密設計と革新的触媒の開発
表面反应场的精确设计和使用多元合金开发创新催化剂
- 批准号：
22KJ0016 - 财政年份：2023
- 资助金额：
$ 15.14万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
多元素合金を駆使した表面反応場の精密設計と革新的触媒の開発
表面反应场的精确设计和使用多元合金开发创新催化剂
- 批准号：
23KJ0028 - 财政年份：2023
- 资助金额：
$ 15.14万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
赤外プラズモン増強場による高振動励起を基盤とした金属表面反応制御
基于红外等离子体增强场高振动激发的金属表面反应控制
- 批准号：
21K14584 - 财政年份：2021
- 资助金额：
$ 15.14万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists