触媒ナノ粒子分散プラズマ反応場による二酸化炭素分解とメタン生成
触媒ナノ粒子分散プラズマ反応場による二酸化炭素分解とメタン生成
批准号:
15J05441
负责人:
都甲 将
金额:
$1.6万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2015
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2015-04-24 至 2018-03-31
中文摘要
本研究では、地上応用として太陽光発電電力の日照変動の影響の緩和、宇宙応用として火星上での燃料生成を念頭に、CO2のCH4化を高効率に行うことを目的としている。そのための手法として、触媒ナノ粒子分散プラズマ反応場によるCO2のCH4化を考案した。平成29年度は、火星圧力(750Pa)下でのメタン生成を行い、次の結果を得た。 (1)メタン生成における活性化エネルギーを従来法の約1/3倍まで低減した。(2)電極に銅を用いることで、CH4収率を大きく向上させた。詳細を以下に述べる。(1)電極をイオン衝撃によって加熱し、電極温度とCH4収率の関係を測定した。すると、CH4収率は電極温度と共に増加することが分かり、ここでアレーニウスプロットより活性化エネルギーを導出した。その時の値は27.5kJ/molであり、これは従来の触媒を用いた方法の約1/3倍にあたる。プラズマによって活性化エネルギーが大きく低減するメカニズムについてはまだはっきりとわからないが、おそらく触媒表面でメタン生成に使われる材料分子が原料ガスであるCO2やH2の活性種であり、必要なエネルギーが減少したものと考えられる。(2)電極に銅を用いると、CH4収率がステンレスを用いた時と比べて約6倍増加した。ただし、この時の活性化エネルギーについてはほぼ変わらず、その値は20 kJ/mol前後であった。これは、メタン生成に使われる材料分子の量が変わっているということを示唆している。銅はH-O結合を切りやすくする効果があり、そのため触媒表面上のH原子量が増加、メタン生成速度の向上につながったものと考えられる。
英文摘要
本研究では、地上応用として太陽光発電電力の日照変動の影響の緩和、宇宙応用として火星上での燃料生成を念頭に、CO2のCH4化を高効率に行うことを目的としている。そのための手法として、触媒ナノ粒子分散プラズマ反応場によるCO2のCH4化を考案した。平成29年度は、火星圧力(750Pa)下でのメタン生成を行い、次の結果を得た。 (1)メタン生成における活性化エネルギーを従来法の約1/3倍まで低減した。(2)電極に銅を用いることで、CH4収率を大きく向上させた。詳細を以下に述べる。(1)電極をイオン衝撃によって加熱し、電極温度とCH4収率の関係を測定した。すると、CH4収率は電極温度と共に増加することが分かり、ここでアレーニウスプロットより活性化エネルギーを導出した。その時の値は27.5kJ/molであり、これは従来の触媒を用いた方法の約1/3倍にあたる。プラズマによって活性化エネルギーが大きく低減するメカニズムについてはまだはっきりとわからないが、おそらく触媒表面でメタン生成に使われる材料分子が原料ガスであるCO2やH2の活性種であり、必要なエネルギーが減少したものと考えられる。(2)電極に銅を用いると、CH4収率がステンレスを用いた時と比べて約6倍増加した。ただし、この時の活性化エネルギーについてはほぼ変わらず、その値は20 kJ/mol前後であった。これは、メタン生成に使われる材料分子の量が変わっているということを示唆している。銅はH-O結合を切りやすくする効果があり、そのため触媒表面上のH原子量が増加、メタン生成速度の向上につながったものと考えられる。
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Methane production for energy storage using low temperature plasma
利用低温等离子体生产甲烷用于储能
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
--
作者:
[S. Toko, Y. Torigoe, K. Keya, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, and M. Shiratani, 都甲 将,谷田 知史,山本 瑛久,古閑 一憲,白谷 正治, 都甲 将, 都甲 将, 都甲 将, Susumu Toko]
通讯作者:
Susumu Toko
ヘリコンプラズマを用いた低温低圧下におけるCO2からのCH4生成
使用螺旋等离子体在低温低压下从 CO2 生成 CH4
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[佐々木塁, 市地慶, 阿部亨, 菅沼拓夫, 都甲 将]
通讯作者:
都甲 将
Cluster Incorporation into A-Si:H Films Deposited Using H 2 +SiH 4 Discharge Plasmas
使用 H 2 SiH 4 放电等离子体沉积的 A-Si:H 薄膜中的簇合并
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP
影响因子:
--
作者:
[S. Toko, Y. Torigoe, K. Keya, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani]
通讯作者:
M. Shiratani
プラズマを用いた二酸化炭素のメタン化における電極表面の影響
电极表面对等离子体二氧化碳甲烷化的影响
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
--
作者:
[都甲将, 谷田知史, 古閑一憲, 白谷正治]
通讯作者:
白谷正治
Hysteresis in volume fraction of clusters incorporated into a-Si:H films deposited by SiH4 plasma chemical vapor deposition
SiH4 等离子体化学气相沉积沉积的 a-Si:H 薄膜中团簇体积分数的滞后现象
DOI:
10.1016/j.surfcoat.2017.01.034
发表时间:
2017
期刊:
Surface and Coating Technology
影响因子:
--
作者:
[S. Toko, Y. Torigoe, K. Keya, T. Kojima, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, and M. Shiratani]
通讯作者:
and M. Shiratani
共 31 条
低圧高密度プラズマを用いたプラズマ/触媒相互作用の解明と高安定な触媒運用の実現
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批准号:24K17037
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项目类别:Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
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资助金额:$2.91万
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财政年份:2024
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负责人:都甲 将
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依托单位:
海外基金