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Fundamental study of green EUV lithography using natural polysaccharide for the use of pure water in developable process
使用天然多糖在可显影过程中使用纯水的绿色 EUV 光刻的基础研究
基本信息
- 批准号：25790036
- 负责人：
- 金额：$ 2.83万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
- 财政年份：2013
- 资助国家：日本
- 起止时间：2013-04-01 至 2016-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Organic solvent-free sugar-based nanopatterning transparency material derived from biomass for eco-friendly optical biochips using green lithography
源自生物质的无有机溶剂糖基纳米图案透明材料，用于使用绿色光刻的环保光学生物芯片
- DOI：
- 发表时间：2014
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：谷口知大;今村裕志;Satoshi Takei;竹井 敏;竹井 敏;竹井 敏;竹井 敏;竹井 敏;Satoshi Takei
- 通讯作者：Satoshi Takei
Ultraviolet nanoimprint lithography using cyclodextrin-based porous template for pattern failure reduction
使用基于环糊精的多孔模板的紫外纳米压印光刻可减少图案故障
- DOI：
- 发表时间：2015
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：谷口知大;Wayne M Saslow;Satoshi Takei and Makoto Hanabata
- 通讯作者：Satoshi Takei and Makoto Hanabata
Approach of natural polysaccharide to green resist polymers for EUV lithography
天然多糖制备用于 EUV 光刻的绿色抗蚀剂聚合物的方法
- DOI：
- 发表时间：2014
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Satoshi Takei;Akihiro Oshima;Tomoko G. Oyama;Kenta Ito;Kigenn Sugahara;Miki Kashiwakura;Takahiro Kozawa;Seiichi Tagawa;Makoto Hanabata
- 通讯作者：Makoto Hanabata
Restricted diffusion of guest molecules in polymer thin films on solid substrates as revealed by three-dimensional single-molecule tracking
三维单分子追踪揭示了固体基底上聚合物薄膜中客体分子的受限扩散
- DOI：
- 发表时间：2015
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Syoji Ito;Yuhei Taga;Kengo Hiratsuka;Satoshi Takei;Daichi Kitagawa;Seiya Kobatake and
- 通讯作者：Seiya Kobatake and
Organic solvent-free water-developable sugar resist material derived from biomass in green lithography
绿色光刻中源自生物质的无有机溶剂水可显影抗糖材料
- DOI：
- 发表时间：2014
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：32.Satoshi Takei;Akihiro Oshima;Takumi Ichikawa;Atsushi Sekiguchi;Miki Kashiwakura;Takahiro Kozawa;Seiichi Tagawa;Tomoko G. Oyama;Syoji Ito and Hiroshi Miyasaka
- 通讯作者：Syoji Ito and Hiroshi Miyasaka
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{{ truncateString('TAKEI SATOSHI', 18)}}的其他基金
Gas permeable mold in nanoimprint lithography
纳米压印光刻中的透气模具
- 批准号：
16K04920 - 财政年份：2016
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$ 2.83万 - 项目类别：
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离子对添加引发的马兰戈尼对流传质及其在表面微加工中的应用
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利用固体电解质离子传输开发完全无化学品的金属表面微加工工艺
- 批准号：
24KJ2153 - 财政年份：2024
- 资助金额：
$ 2.83万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
希薄空力における極超音速希薄風洞実験とDSMC・MD解析による微細加工影響の解明
通过高超音速稀风洞实验和稀空气动力学中的 DSMC/MD 分析阐明微加工效果
- 批准号：
24K07893 - 财政年份：2024
- 资助金额：
$ 2.83万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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使用新衬底主表面和新蚀刻方法开发氧化镓微加工器件
- 批准号：
24K01368 - 财政年份：2024
- 资助金额：
$ 2.83万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
半導体デバイス微細加工技術と評価手法による粒子状光触媒の設計指針の構築と高効率化
利用半导体器件微加工技术和评估方法建立颗粒光催化剂的设计指南并提高其效率
- 批准号：
24K17641 - 财政年份：2024
- 资助金额：
$ 2.83万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Early-Career Scientists