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Mechanism of electroless deposition of metal nanostructures at a metal ion solution/silicon interface
金属离子溶液/硅界面化学沉积金属纳米结构的机理
基本信息
- 批准号：16K05933
- 负责人：
- 金额：$ 3.08万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2016
- 资助国家：日本
- 起止时间：2016-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Nanoscale Raman Imaging with Nanogold-Topped AFM Probes Fabricated by Area-Selective Electroless Deposition
- DOI：10.1149/2.0561814jes
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：3.9
- 作者：Hiroki Itasaka;M. Nishi;M. Shimizu;Yoshito Okuno;S. Kashiwagi;N. Naka;K. Hirao
- 通讯作者：Hiroki Itasaka;M. Nishi;M. Shimizu;Yoshito Okuno;S. Kashiwagi;N. Naka;K. Hirao
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- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
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- 通讯作者：平尾一之
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- DOI：10.2109/jcersj2.18042
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：1.1
- 作者：NISHI Masayuki
- 通讯作者：NISHI Masayuki
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NISHI Masayuki
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