Mechanism of electroless deposition of metal nanostructures at a metal ion solution/silicon interface
Mechanism of electroless deposition of metal nanostructures at a metal ion solution/silicon interface
批准号:
16K05933
负责人:
NISHI Masayuki
金额:
$3.08万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2016
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2016-04-01 至 2019-03-31
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DOI:
10.1149/2.0561814jes
发表时间:
2018
期刊:
Journal of The Electrochemical Society
影响因子:
3.9
作者:
[Hiroki Itasaka;M. Nishi;M. Shimizu;Yoshito Okuno;S. Kashiwagi;N. Naka;K. Hirao]
通讯作者:
Hiroki Itasaka;M. Nishi;M. Shimizu;Yoshito Okuno;S. Kashiwagi;N. Naka;K. Hirao
シリコン-塩化金酸水溶液界面での金成長機構: ToF-SIMSによるシリコン表面分析
硅-氯金酸水溶液界面的金生长机制:利用 ToF-SIMS 进行硅表面分析
DOI:
--
发表时间:
2017
期刊:
影响因子:
--
作者:
[則松 和良, 西 正之, 板坂 浩樹, ビスバル ヘイディ, 清水 雅弘, 平尾一之]
通讯作者:
平尾一之
西正之 - Researchmap
西雅之 - Researchmap
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
西 正之(京都大学教育研究活動データベース)
Masayuki Nishi(京都大学教育研究活动数据库)
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Focused-ion-beam-enabled electroless growth of gold nanoparticles on silicon
硅上金纳米颗粒的聚焦离子束化学镀生长
DOI:
10.2109/jcersj2.18042
发表时间:
2018
期刊:
Journal of the Ceramic Society of Japan
影响因子:
1.1
作者:
[NISHI Masayuki]
通讯作者:
NISHI Masayuki
共 14 条
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