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Mechanism of electroless deposition of metal nanostructures at a metal ion solution/silicon interface

Mechanism of electroless deposition of metal nanostructures at a metal ion solution/silicon interface
金属离子溶液/硅界面化学沉积金属纳米结构的机理
批准号:
16K05933
负责人:
NISHI Masayuki
金额:
$3.08万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份:
2016
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2016-04-01 至 2019-03-31

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DOI: 10.1149/2.0561814jes
发表时间: 2018
期刊: Journal of The Electrochemical Society
影响因子: 3.9
作者: [Hiroki Itasaka;M. Nishi;M. Shimizu;Yoshito Okuno;S. Kashiwagi;N. Naka;K. Hirao]
通讯作者: Hiroki Itasaka;M. Nishi;M. Shimizu;Yoshito Okuno;S. Kashiwagi;N. Naka;K. Hirao
シリコン-塩化金酸水溶液界面での金成長機構: ToF-SIMSによるシリコン表面分析
硅-氯金酸水溶液界面的金生长机制:利用 ToF-SIMS 进行硅表面分析
DOI: --
发表时间: 2017
期刊:
影响因子: --
作者: [則松 和良, 西 正之, 板坂 浩樹, ビスバル ヘイディ, 清水 雅弘, 平尾一之]
通讯作者: 平尾一之
西正之 - Researchmap
西雅之 - Researchmap
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
西 正之(京都大学教育研究活動データベース)
Masayuki Nishi(京都大学教育研究活动数据库)
DOI: --
发表时间:
期刊:
影响因子: --
作者: []
通讯作者:
14
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