Atomic layer etching of transition metal chalcogenide with gas cluster ion beam

气体团簇离子束对过渡金属硫族化物的原子层刻蚀

基本信息

  • 批准号：
    17K05061
  • 负责人：
    Toyoda Noriaki
  • 金额：
    $ 3.08万
  • 依托单位：
    University of Hyogo
  • 依托单位国家：
    日本
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
  • 财政年份：
    2017
  • 资助国家：
    日本
  • 起止时间：
    2017-04-01 至 2020-03-31
  • 项目状态：
    已结题

项目摘要

项目成果

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专著数量（0）
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会议论文数量（0）
专利数量（0）
Low temperature wafer bonding with gas cluster ion beams
使用气体团簇离子束进行低温晶圆键合
  • DOI：
  • 发表时间：
    2019
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Noriaki Toyoda;Shota Ikeda
  • 通讯作者：
    Shota Ikeda
Atomic layer etching with gas cluster ion beam irradiation in reactive gas vapor
反应气体蒸气中气体团簇离子束照射的原子层蚀刻
  • DOI：
  • 发表时间：
    2017
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    Noriaki Toyoda;Akihiro Ogawa;Isao Yamada
  • 通讯作者：
    Isao Yamada
Irradiation conditions of gas cluster ion beam for surface-activated bonding
表面活化键合气体团簇离子束的照射条件
  • DOI：
    10.7567/jjap.57.02ba02
  • 发表时间：
    2018
  • 期刊：
    Japanese Journal of Applied Physics
  • 影响因子：
    1.5
  • 作者：
    Noriaki Toyoda;Tomoya Sasaki;Shota Ikeda;Isao Yamada
  • 通讯作者：
    Isao Yamada
Optimization of GCIB irradiation conditions for surface activated bonding Proceedings of 5th Int. Workshop on Low Temperature Bonding for 3D Integration
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  • DOI：
  • 发表时间：
    2020
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    鶴岡 徹;蘇 進;辻田卓司;西谷雄;濱村朋史;稲富友;名倉健祐;寺部 一弥;植松　功多,　豊田 紀章
  • 通讯作者：
    植松　功多,　豊田 紀章
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  • 通讯作者：
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