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Basic research on nanostructure control for the fabrication of ultra-wide bandgap oxide quantum devices by mist CVD
雾气CVD制备超宽带隙氧化物量子器件的纳米结构控制基础研究
基本信息
- 批准号：18H01873
- 负责人：
- 金额：$ 11.4万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
- 财政年份：2018
- 资助国家：日本
- 起止时间：2018-04-01 至 2022-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
溶液系大気圧ミストCVDによる硫化スズ（SnSx）薄膜の作製プロセスの開発
开发基于溶液的常压雾气 CVD 硫化锡 (SnSx) 薄膜的制造工艺
- DOI：
- 发表时间：2019
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：佐藤翔太;劉麗;G. T. Dang;川原村敏幸
- 通讯作者：川原村敏幸
ミストCVD における酸化亜鉛薄膜形成時の水の効果
水对雾气 CVD 氧化锌薄膜形成的影响
- DOI：
- 发表时间：2019
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：ルトンジャン ピモンパン;西 美咲;川原村 敏幸;坂本 雅仁;劉 麗;佐藤 翔太;上田 真理子;安岡 龍哉;長谷川 諒;尾崎 珠子;鄧 太 江
- 通讯作者：鄧 太 江
FC式ミストCVDの原料供給濃度変化による反応メカニズム解析
FC型雾气CVD中原料供给浓度变化引起的反应机理分析
- DOI：
- 发表时间：2018
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：西 美咲;劉 麗;佐藤 翔太;長谷川 諒;安岡 龍哉;上田 真理子;尾﨑 珠子;RUTTHONGJAN Phimolphan;鄧 太 江;川原村 敏幸
- 通讯作者：川原村 敏幸
Composition control of Zn1-x Mg x O thin films grown using mist chemical vapor deposition
使用雾化学气相沉积生长的 Zn1-x Mg x O 薄膜的成分控制
- DOI：10.7567/1347-4065/aafd18
- 发表时间：2019
- 期刊：
- 影响因子：1.5
- 作者：Rutthongjan Phimolphan;Liu Li;Nishi Misaki;Sakamoto Masahito;Sato Shota;Pradeep Ellawala K C;Dang Giang T;Kawaharamura Toshiyuki
- 通讯作者：Kawaharamura Toshiyuki
Crystallinity Improvement of Mist Chemical Vapor Deposition Grown ZnO Thin Films by Controlling Film Crystal Orientation
通过控制薄膜晶体取向提高雾化化学气相沉积生长的 ZnO 薄膜的结晶度
- DOI：
- 发表时间：2019
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Phimolphan Rutthongjan;Misaki Nishi;Li Liu;Giang Dang;Toshiyuki Kawaharamura
- 通讯作者：Toshiyuki Kawaharamura
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$ 11.4万 - 项目类别：
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$ 11.4万 - 项目类别：
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