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Application technology development harnessing mist characteristics-The mist method for fabrication technology of electronic devices-

Application technology development harnessing mist characteristics-The mist method for fabrication technology of electronic devices-
利用雾特性的应用技术开发-电子器件制造技术的雾方法-
批准号：
22760232
负责人：
KAWAHARAMURA Toshiyuki
金额：
$2.75万
依托单位：
Kochi University of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2010
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2010 至 2011
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-22760232/
关键词：
電気・電子材料ミスト薄膜成長加工電子デバイスミスト(液滴)大気圧プロセス化学気相成長(CVD)法液滴の挙動反応メカニズム金属酸化物薄膜デバイス作製工程の非真空化薄膜トランジスタ(TFT)薄膜成長薄膜食刻(エッチング)ミストの挙動ミスト法の位置付け

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It succeeded in clarifying the mechanism and behavior about the mist method. As a result, any researches have been stepped up. Moreover, the index of non-vacuum process conversion of the TFT fabrication process was demonstrated. Application development of the mist CVD to the electronic device fabrication technology was promoted.
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本人博士論文
个人博士论文
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
ドーパントを添加した結晶性の高い導電性α型酸化ガリウム薄膜およびその生成方法
掺杂剂的高结晶导电α型氧化镓薄膜及其制备方法
DOI： --
发表时间： 2011
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
Study on the behavior of mist droplets and the mechanism in the mist Chemical Vapor Deposition
雾气化学气相沉积中雾滴行为及机理研究
DOI： --
发表时间： 2011
期刊：
影响因子： --
作者： [T. Kawaharamura, S. Fujita, and T. Hirao]
通讯作者： and T. Hirao
A Novel Solution-based Vapor-etching Technique : Mist-etching
基于溶液的新型气相蚀刻技术：雾蚀刻
DOI： --
发表时间： 2010
期刊：
影响因子： --
作者： [川原村敏幸(Toshiyuki Kawaharamura), 平尾孝(Takashi Hirao)]
通讯作者： 平尾孝(Takashi Hirao)
共 8 条
    Basic research on nanostructure control for the fabrication of ultra-wide bandgap oxide quantum devices by mist CVD
    • 批准号：
      18H01873
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额：
      $11.4万
    • 财政年份：
      2018
    • 负责人：
      KAWAHARAMURA Toshiyuki
    • 依托单位：
      Kochi University of Technology
    Development of atmospheric-pressure plasma applied mist chemical vapor deposition and ZnO thin film growth under room temperature using the method.
    • 批准号：
      20860081
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Young Scientists (Start-up)
    • 资助金额：
      $2.1万
    • 财政年份：
      2008
    • 负责人：
      KAWAHARAMURA Toshiyuki
    • 依托单位：
      Kochi University of Technology
    海外基金