電気化学反応の精密制御による電鋳プロセスの高精度化

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本研究は、電鋳法の高精度化とX線回転体ミラー作製への応用を目的に研究を行っている。第一年度では電析条件が転写面粗さ・形状転写精度に与える影響を定量的に明らかにした。第二年度では、第一年度の研究で得られた知見を活かし、電鋳法の高精度化を進めた結果、従来法と比較して１桁以上高い数十ナノメートルオーダの転写精度を得ることに成功した。さらに、X線自由電子レーザー(XFEL)施設であるSACLAにおいて実際に作製したミラーの光学性能を評価し開発したプロセスの優位性を示した。第三年度では、これまで得られた結果について、国際学会において発表するとともに、国際学術論文への投稿準備を進めた。さらに、これまで開発した高精度な電鋳プロセスのもうひとつの応用として、X線望遠鏡用結像ミラーの作製に研究を発展させた。大口径な結像ミラー作製のための作製装置を新たに開発した。基礎実験により作製条件を最適化した後、X線望遠鏡用ウォルターミラーの作製を実施した。ウォルターミラーの作製と評価に関して、国際学会において報告した。